中芯N+1工艺正式投产！国产科技巨头齐发力：迎7nm芯片时代【11月16日讯】导语

【中芯N+1工艺正式投产！国产科技巨头齐发力：迎7nm芯片时代】【11月16日讯】导语，在最近两天时间里，国产芯片、国产操作系统发展已成为了国内科技圈最热门的话题，国内科技巨头们也开始觉醒，纷纷意识到曾经“造不如买，买不如租”的发展理念，在当下这个时代，确实真的很是可笑，所以国内企业也在不断地尝试打破技术封锁，同时国家也相继出台了很多扶持政策以及激励计划，甚至还定下了2025年将要实现国产芯片70%的自给率目标，在国家大力扶持下，我们的国产半导体产业也字节进入到了飞速发展期，很多芯片企业都开始不断地传来消息，尤其是国内实力最强大的芯片代工企业中芯国际，目前更是完成了FinFET N＋1先进工艺的流片和测试工作，要知道中芯N+1工艺可以媲美台积电代工的7nm芯片，这也意味着中芯国际已经初步具备生产7nm芯片的能力。
文章插图
就在中芯国际官宣具备7nm芯片生产能力后，国产光刻机、国产光刻胶也传来了好消息，中科院以及上海微电子目前正在全力攻克国产光刻机的技术难题，在今年年底可以正式交付首台国产28nm光刻机，预计在明年可以顺利完成国产28nm光刻机的量产，更重要的是这台国产28nm光刻机在经过多重曝光下，最高可实现7nm芯片量产，虽然还无法媲美目前最顶尖的EUV光刻机设备，但这套国产光刻机设备诞生，绝对可以完成绝大部分芯片生产。
文章插图
除了光刻机传来好消息以外，国产光刻胶也传来了好消息，根据新浪官方报道，在11月13日，能宁波南大光电材料有限公司已经正式取得了技术突破，该公司（国内）首条ArF高端光刻胶产线已经正式投入生产，根据业内人士爆料，南大光电所生产的ArF光刻胶，可用于国产7nm芯片的量产。
文章插图
这意味着我们国产芯片产业链的两大技术短板，目前都已经取得了重大突破，完全可以使用国产光刻机、国产ArF光刻胶，来实现7nm芯片生产，这也为中芯N+1工艺全面投产打下了坚实的基础，现在的我们显然已经解决了芯片制造技术、光刻机、半导体材料等方面的核心难点，而我们也将会迎来全新的7nm芯片时代；当然我们在高端的5nm芯片技术上，依旧还有待取得技术突破，但小编践行，我们一定可以突破西方国家的技术封锁，我们也一定可以拍着胸脯说道：“不就是芯片吗？算个球？”
文章插图
最后：在众多国产科技巨头们努力下，让我们国产芯片不断传来好消息，如今终于迈入到7nm工艺时代，各位小伙伴们，你们是否期待我们国产高端芯片产品的到来呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！