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\">在大部分人的认知中 ， 想要生产7nm ， 5nm这类高端芯片 ， 必须使用EUV光刻机 。 通过极紫外光对晶圆进行曝光处理 ， 把芯片电路图刻制的晶圆当中 。
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芯片制程越高 ， 对光刻机的要求也越大 。 但有没有想过不用EUV光刻机也能造5nm芯片？关于这一点 ， 日本企业开发了新工艺 ， 或能变成现实 。 如果新工艺大获成功 ， 意味着什么？
日本巨头开发新型半导体工艺当下的半导体发展模式延续了几十年 ， 从设计到制造 ， 再到封装等等一系列的环节都已经取得完善的产业链 。 很多相应的技术也是基于这类的模式而诞生 ， 为芯片产业提供基础保障 。
比如使用EUV光刻机造5nm芯片 ， 成为了行业发展的共识 。 即便不是5nm ， 要想生产14nm ， 28nm等等工艺制程的芯片 ， 也要用上光刻机 。
【小米科技|不用EUV也能造5nm芯片？ASML也没料到，一切都来得如此之快】然而打破这项共识的是 ， 日本巨头铠侠开发了新型半导体工艺 ， 采用新的生产技术实现芯片量产 。 这是怎样的工艺技术呢？
根据媒体报道 ， 存储巨头日本铠侠公司在2017年时 ， 就开始探索新工艺 ， 与半导体设备厂商佳能 ， 光罩制造商DNP进行合作 。 专门研发一项纳米压印微影技术（NIL） ， 目前铠侠已经掌握了15nm的芯片量产技术 ， 并正在尝试研发15nm以下的量产工艺 ， 目标直指5nm 。
铠侠的这项NIL技术意义重大 ， 放眼全球半导体行业 ， 一直遵循传统的工艺制造方法 。 历经几十年的研发和投入不计其数的资源 ， 终于完成了一整套制造流程 ， 解决各种芯片生产中的难题 。
最重要的是 ， 在这套流程下生产制造出7nm ， 5nm等高端工艺 。 这足以证明 ， 这套工艺流程是没有问题的 。 而这时候铠侠开发出新工艺 ， 无疑将打破现有的芯片制造流程 ， 如果证实了这套新工艺的可行性 ， 恐怕半导体行业会出现新的市场格局 。
其中有一项验证就是 ， 不用EUV光刻机是否也能造出高端5nm芯片 。
不用EUV也能造5nm芯片吗？半导体行业的发展基本上达到一个瓶颈 ， 摩尔定律肯定会失效 ， 芯片的物理极限想要打破变得更加困难 。 未来几十年的芯片制造行业 ， 或许真的芯片新工艺去开创市场环境 。
但前提是能够超越现有的生产制造流程 ， 做得比现在的芯片制造模式还要好 。 所以业内会比较关注一个问题 ， 那就是依靠铠侠的NIL新工艺 ， 可以不用EUV光刻机也能造5nm芯片吗？
相信这也是比较多人关心的话题 ， 首先对比NIL技术和EUV极紫外光技术 ， NIL可以带来更
而NIL技术的运用可以减少40%的设备投资成本 ， 并降低10%的耗电量 。
其次NIL电路精细程度可和5nm相媲美 ， 达到和极紫外光几乎一致的精密程度 。
其实从原理上来看 ， 纳米压印微影和极紫外光其实是有共同之处的 ， 都是把晶体管电路以类似照片冲洗印刷的方式 ， 曝光在硅片晶圆上 。 最终把晶圆分割成一块块指甲盖大小的芯片 ， 进行后续的生产流程 。
所以大致可以判断 ， NIL和EUV技术是能够形成一定替代关系 ， 从理论来说 ， 采用NIL技术后 ， 不用EUV也能造5nm芯片或许真能变成现实 。
如果新工艺大获成功 ， 意味着什么？铠侠等厂商研发的NIL技术可能要刷新对半导体行业的认知了 ， 一般情况下 ， 芯片制造商都必须通过EUV光刻机才能生产出高端芯片 。 可结果铠侠研发的新技术有可能打破这一规律 。 一旦新工艺大获成功 ， 意味着什么？
稿源：(猫仔科技)
【傻大方】网址：http://www.shadafang.com/c/102Y356152021.html
标题：小米科技|不用EUV也能造5nm芯片？ASML也没料到，一切都来得如此之快