极紫外光刻|EUV光刻机宣告突破，中科院兑现诺言，ASML没想到会这么快光刻机|asml

【极紫外光刻|EUV光刻机宣告突破，中科院兑现诺言，ASML没想到会这么快】

文章图片

文章图片

文章图片

芯片制造一直以来都是国内半导体产业的最大短板，而我们所用到的绝大多数芯片，约有50%都是从美国花高价买过来的，据统计数据显示， 2019-2020年，我国芯片进口总额超过了3000亿，约占全球半导体消费市场的40% ，远超石油！
然而，从我国市场赚得盆满钵满的老美，却嫉恨华为等国产高科技企业的崛起，便用一纸芯片禁令，彻底堵死了国内市场的芯片进口之路，并顺手切断了代工渠道，导致华为海思空有一身顶尖的芯片设计功夫，却没有用武之地。
我们之所以受困于芯片禁令，很大程度上是因为缺少EUV光刻设备。而全球唯一能生产EUV设备的荷兰巨头ASML ，却因为产线上含有美国技术配件而受限于“出口管制” ，以至于始终无法卖给我们该设备。
在华为被断供之后，任正非曾访问中科院寻求帮助，双方更是明确地达成了共识：国产芯片破冰的关键所在，就是EUV光刻机。
为了实现“中国芯”的崛起，中科院主动接过任务，并成立EUV核心专项技术攻关小组，势要在最短的时间内完成突破。
不曾想到， ASML在得知我们要自研EUV后，居然会进行冷嘲热讽地表示：即便给中国图纸，他们也造出来。虽然工程院士吴汉明也表示：EUV是全球智慧的结晶，我们仅凭一己之力来研发是非常不现实的。
但是，面对老美毫无底线的打压，被“卡脖子”的我们根本没有“知难而退”的余地。更重要的是，研发EUV不仅是为了扫清芯片国产化道路上的障碍，更是对民族尊严的一种维护！
因此，任何的质疑与嘲讽，都不可能磨灭中国科学家突破EUV垄断的决心
果然，好消息很快就传来了。华卓精科率先发力，自主研发出了EUV核心技术之一的双工件台系统，成为继ASML之后，全球第二家掌握该技术的企业。
目睹我国在光刻领域的研发进展，曾经泼冷水的ASML也立即改口，不仅先后五次示好我国市场，甚至开始“捧杀” ，表示：如果美国继续制裁，那么中国将在15年之内独自造出EUV光刻机。
然而， ASML显然还是低估了中国科学家们攻坚的毅力和实力，怎么也没想到会这么快，仅仅一年时间，我国的EUV光刻机就落地在即了。
除了双工件台系统之外， EUV设备还有两大核心技术，分别是光源和光学镜头。
在光源方面，清华大学唐传祥教授带领的科研团队，在今年二月份成功探索出了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束” ，其波长可从太赫兹覆盖到极紫外光波段，而极紫外光正是EUV的工作光源。更难能可贵的是，我国自主的光源技术，除了适用于EUV之外，还有更加广泛的应用场景。
仅隔不足6个月，央视就报道出了与光学镜头有关的重大喜讯。
由中科院自主研发的国内首台高能辐射光源设备，正式完成了安装应用。
与此同时，由中科科美研发的直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置也都纷纷投入使用。
这两项装置结合高辐光源设备，几乎能够满足所有工艺需求的物理镜头技术，包括蔡司镜头。
这意味着， EUV光刻机的三大核心技术均已告破，而中科院也兑现了自己的诺言。
虽然EUV号称超过10万个的精密配件还未突破，但它再多能多的过航母吗？这对于庞大的中国制造市场来说，这并不是大问题。
回顾这七十年来，在西方的封锁之下，我国科技的发展之路虽然十分坎坷，但从未停歇，一个个首创成果纷至沓来，一项项超级工程问鼎世界，一次次科学突破造福人类，用“峰回路转、百舸争流”来形容中国科技最为合适。小小的EUV光刻机又何足道哉呢？