光刻机|关于EUV光刻机，清华大学正式宣布，果然被比尔盖茨说中了比尔·盖茨|清华大学|芯片|it芯

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工业皇冠上的明珠-光刻机光刻机是工业皇冠上的明珠，是芯片制造产业链中最关键的设备。华为等国产企业之所以会被芯片卡脖子，除了西方的限制手段之外，更重要的原因就是我们制造不出能用于芯片生产的高端EUV光刻机。
很显然，若想实现高端芯片的自主，那么就必须拿下光刻技术这个难题。
必须强调的是，光刻机是一项极为复杂且精密的制造仪器，以全球最先进的光刻厂商ASML所生产的EUV光刻机为例，其涵盖了许多国家的核心技术和顶尖零配件，比如德国的蔡司光源、瑞士的数控机床、美国的EDA软件等等，正是由于这个原因， ASML才敢放出大话，表示即便给我们图纸，我们也造不出来。
诚然光刻机的确很难，但任何先进的技术设备都是由人制造的，而非神制造。
芯片问题刻不容缓，在这种情况下，包括中科院在内的众多顶级科研团队，都入局到光刻设备的研发中来。另外，国内相关企业接洽日本老牌光刻巨头佳能和尼康，以技术共享的合作的方式，加速国产高端光刻机的研发脚步。
我们为光刻技术设备所做的努力有目共睹，果然功夫不负有心人，近日国内传出好消息，事关国产高端光刻机。
清华大学正式宣布
2月25日，清华大学正式宣布，完成了新型粒子加速器光源的测试。据了解，这项重大科研成果是清华工物系在光源“稳态微聚束”的研究中取得的。
这项光源的波长可以从太赫兹覆盖到极紫外波段，要知道EUV光刻机的另一个名称便是极紫外光刻机。光源是其最重要的组成部分之一，也是最尖端的技术之一，突破光源技术意味着我们迈出了成功研发EUV光刻机的关键一大步，而光源的长短和功率则直接决定了光刻工艺水平的精准度。
【光刻机|关于EUV光刻机，清华大学正式宣布，果然被比尔盖茨说中了】
虽然这项光源技术还不能立刻进入设备组合阶段，但我们思路已经清晰，完全有理由相信随着进一步的实验和测试，用不了多久，该项科研成果便会成熟的进入工业、商业等应用层次。
果然被比尔盖茨说中了
我国科研团队在极紫外光源上的突破，是美科技界始料未及的，要知道光刻技术算得上是西方对我们技术限制的最后一道屏障，而且如今距离芯片断供也才半年左右的时间而已，实在是太快了。
不过，对于被断供芯片后的中国科技的发展势头，比尔盖茨则是早有预言， “不卖给华为等中企芯片是不明智的，这是在逼着他们自己造，他们会很快建立自主的半导体产业链，到时候以出口为主的美半导体企业将得不偿失” 。
写在最后目前，国产科技在摆脱依赖、实现国产化的道路上可谓是多点开花，除了并不遥远的EUV光刻机，还有7nm芯片制造技术、光芯片、光刻胶、EDA软件等等。我们的目标只有一个，那就是实现核心技术自主，建立国产化科技的大一统。