荷兰媒体：中国光刻机已经突破7nm，先进的不像是中国能发明的多年以来

多年以来，半导体技术一直都是我国比较薄弱的一项技术领域，不管是半导体材料还是芯片制造或者是半导体的相关设备，我国都是比较欠缺的，原本华为在芯片上面的突破让我们看到了国产半导体崛起的希望，但是美国的做法让我们更加意识到半导体技术缺失的严峻性。
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正是因为知道半导体技术的落后，所以我们才会更加努力地在半导体领域寻求突破，尤其是光刻机，作为现代科技的天花板，光刻机的重要性不言而喻，并且还有一个更重要的原因就是，芯片必然是未来科技的主流，而光刻机又是唯一能够制造芯片的工具。
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所以我国一定会竭尽全力去发展光刻机的。意识到光刻机领域发展的艰难，国家也坐不住了，决定亲自下场促进光刻机技术的研究。并且国家预计拿出1.4万亿美元发展一个“半导体5年计划” ，力图在五年之内让中国半导体行业彻底摆脱外国技术。
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荷兰媒体：中国光刻机已经突破7nm ，先进的不像是中国能发明的！有很多人觉得这是不可能的事情，因为中国现有的光刻机技术距离世界顶端的荷兰光刻机还相差了至少两代以上，这意味着常规科研进度下，中国需要10年以上的时间才能够追平。
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但是，中国速度能使普通速度吗？有了中科院的加入之后，中芯国际迅速完成了技术的整合与突破，目前中芯国际研发的N+1工艺已经是相当于台积电的7nm制程了，这样的发展速度也是很多人都没有想到的。
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【荷兰媒体：中国光刻机已经突破7nm，先进的不像是中国能发明的】不过现在高兴还为时过早，中芯国际的这项技术仍然还有着不少是外国的技术，只有当把它们全部都转化为国产科技的时候，那才是我们最应该兴奋的时候，就让我们拭目以待吧。