中科院公开发声：打破ASML5nm光刻机垄断，这是误读本文原创

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国产光刻机突破5nm？受到芯片，半导体等集成电路领域产业的兴起，很多人都在关注半导体行业的现状，也了解了很多芯片大概是怎么回事，知道华为海思，高通是全球顶尖的芯片设计公司，明白了台积电是全球最大的芯片代工企业。
但是除了这些之外，在芯片界科技含量最高，集成度最复杂的还是光刻机。一台光刻机10万个零部件，普通的汽车也只有几千个零部件。
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相差的不是一点两点，尤其是高端EUV光刻机， ASML每年的产量都十分有限。用EUV光刻机才能够制造5nm芯片，所以一台5nm光刻机的重要性不言而喻。
联系到中科院要布局光刻机，把光刻机，芯片等技术列为科研清单，让国内一众民众欢呼雀跃。
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而且之前中科院网站上也发布了一篇关于“5nm光刻技术获突破”的论文更是让网友沉不住气了，纷纷发布国产光刻机突破5nm ，打破ASML 5nm光刻机垄断等话题。认为中国已经能打造出能生产5nm芯片的EUV光刻机了。
那事实是怎样的呢？对此发布该篇文章的中科院研究员作出了回应，并表示这是误读。
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中科院做出回应“5nm光刻技术获突破”的相关论文发布在网上以后，迅速引发网友的热议。但随后这篇文章被删除，因为存在一定的误解。据该文作者，中科院研究员刘前表示，这项技术和高端光刻机采用的EUV技术是两回事。
刘前还解释说到，中科院研究的5nm超高精度激光光刻加工办法的用途是用在制作光掩模，在是光刻制作不可缺少的一部分。
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但想要因此打破ASML在EUV光刻机的垄断，还有很多技术要突破，比如镜头数值孔径，还光源的波长等等。
由此可见，制作一台EUV光刻机，仅仅是掌握其中的一项技术还无法做到完全打破垄断的地步。就好比一台汽车，由发动机、变速箱、中控、方向盘等多种重要零部件组成，不能说其中一家供应商生产提供了方向盘，就具备制造整车的能力。
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中科院公开发声，做出回应，所以在发布看法和意见之前，还需要对真相有所了解。当然， 5nm超高精度激光光刻获得突破也是一件值得高兴的事情，一点一滴积累，到最后实现更高技术的突破，甚至真正打破垄断。
厚积薄发在了解了事情的真相以后，不得不产生疑问，我国的光刻机到底是什么水平？
首先按照制程来划分，可以分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等工艺，据悉， ASML的EUV光刻机已经能实现5nm制程，并且正在向3nm、2nm甚至是更低1nm做出了规划。
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而据半导体资深人士向AI财经社透露，我国目前可以实现180nm制程，而且还是在试用阶段。
国内最大的光刻机设备制造商还有一台没有量产的90nm制程光刻机，采用的光源技术还是外企20年前的水平。由此可见，想要真正达到EUV光刻机水平，还远不是现在能达到的。
十年甚至是更长的时间，我们也不需要气馁，因为厚积才能薄发。现在的我们一直在进步，落后的功课也一定能补上。在全面发展的同时也是直面自己的问题所在，只有直到问题，才能对症下药，解决问题，最后实现厚积薄发。