华为|华为终于等到了!中国7nm工艺“破冰”:完全绕开EUV光刻机
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从2018年的中兴事件 , 到如今的华为芯片危机 , 美国针对中国半导体产业打压从未停止 。 多个制裁举措的背后 , 中国芯发展的“集结号”也正式吹响 。
今年5月以来 , 美国商务部针对华为 , 修改、升级半导体相关出口规则 。 9月15日芯片禁令彻底实施 , 导致华为在一夜之间“无芯可用” 。 余承东在百人会2020年峰会上直言:受限于中国半导体产业的技术水平 , 麒麟高端系列芯片将成为绝版 。 如今 , 华为芯片供应方案仍未有眉目 , 在未来一段时间里 , 华为多项业务只能依靠“储备芯片”来继续支撑下去 。
今年以来 , 针对半导体产业的发展 , 我国下发多项政策 。 先是将集成电路列为一级学科 , 后针对半导体企业进行税费减免等扶持政策 。 值得一提的是 , 中国半导体产业并没有令人失望 。 根据国内媒体最新消息 , 由我国完全自主研发的7nm制程工艺 , 已经测试通过 。 据悉 , 此次测试是由芯动科技进行 , 被测试的供应为FinFET N+1 。 业内人士指出:该工艺较台积电的14nm相比 , 其性能提升20% , 功耗降低57% , 与目前的7nm供应规格完全相符 。
【华为|华为终于等到了!中国7nm工艺“破冰”:完全绕开EUV光刻机】换言之 , 中国所自主的7nm芯片 , 已经正式流片和测试成功!根据目前的进度来看 , 今年年底或明年年初 , 该工艺将正式实现量产 。 值得一提的是 , 该工艺是完全绕开ASML所产的EUV光刻机来实现的!换言之 , ASML所生产的尖端芯片制造设备EUV光刻机 , 虽然占据着全球超过90%的市场垄断地位 , 但是在中国 , ASML已经无法施展其行业地位!FinFET N+1的测试成功 , 正式打破了ASML的垄断 , 以及美国设置的技术壁垒!
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