芯片|中国版“7nm”芯片登场，半导体行业至少有三个没想到！光刻机|半导体|中芯国际|it芯片

文章图片

文章图片

文章图片

文 | 考拉科技馆排版 | 考拉科技馆

原创文章，禁止转载，违者必究！

这不是演习，中国版“7nm芯片”正式登场！
自美国针对华为颁发芯片禁令后，芯片二字就成了国内科技圈热议的主要话题。由于早些年国内大部分科技企业都信奉造不如买，买不如租的发展理念，这导致国内半导体产业的发展看似繁荣，实则危机无处不在。
之前，因为没有美国的横加干预，国内芯片公司只需要向ARM这样的芯片架构公司买个架构，然后自己设计一番，就可以交给台积电生产芯片了，过程总体来说相对简单。
不过，现在情况不同了，因为美国的干涉，现在台积电已经对部分国内芯片公司关紧大门，不再帮忙代工芯片。
这直接就导致国内部分芯片公司陷入了生死存亡的大危机，自研的芯片也面临成为绝版的命运。
如何解决国内半导体产业孱弱的问题呢？目前国内主要分为两条线，一条是国家层面，不久前，国内第一所芯片大学， “南京集成电路大学”正式成立。此外，国家还推出诸多激励措施，用最高十年免税的福利来鼓励国内半导体企业搞研发。
第二条线来自国内科技企业及机构，前段时间，国内顶级科研单位中ke院已经决定举全院之力来攻克光刻机等关键技术。此外，华为海思也启动招募计划，向外界招收半导体重要细分领域的优秀人才。
这不是演习，在美方的针对下，中国半导体产业必须崛起，没有幻想可言！
值得一提的是，在多方努力下，近期国内的芯动科技发布重磅消息，该司已完成全球首个基于中芯国际FinFET N+1先进工艺的流片和测试，所有IP全自主国产，且功能测试一次通过。
中国版“7nm芯片”登场！
据国内芯片领域的专家透露：中芯国际的FinFET N+1相当于台积电的7nm工艺，不过在性能方面要略差一点，但总体差距不大，可以算是中国版的“7nm芯片” 。
中国版“7nm芯片”登场，半导体行业至少有三个没想到！
第一个没想到是中芯国际的技术，据悉，这次中芯所生产中国版“7nm芯片” ，所用到光刻机并不算先进，可以说是比较老式的光刻机。但就是在条件如此窘迫的情况下，中芯国际却通过技术手段，强行拔高了芯片工艺制程。
中芯国际的这份技术，是半导体行业没想到的。
第二个没想到是7nm芯片的生产并非一定要用到EUV光刻机。像目前国际一流的芯片代工厂台积电，其在生产7nm芯片时，所用到的光刻机是EUV光刻机，而美国芯片制造巨头英特尔，虽然其7nm芯片工艺制程因存在缺陷无法生产，但是其实验用到的光刻机，就是EUV光刻机。
英特尔拥有EUV光刻机，尚不能生产7nm芯片，而中芯却用一台老式光刻机，生产出性能略逊色于主流的7nm芯片，这是让半导体行业没想到的，没想到不用EUV光刻机，也能造出7nm芯片。
第三个没想到是突破速度，此前，高盛曾作出预测，认为中芯国际应该要到2022年才能实现7nm芯片的生产，也即是FinFET N+1工艺。但是现在，中芯国际却在2020年就完成了7nm芯片的生产，虽然略逊色主流7nm芯片，但也足够了不起了，出乎一众分析机构的预料。