西红柿小生|供货台积电，对我国半导体领域影响深远，5nm蚀刻机被中微造出在2017年4月份

在2017年4月份，中微半导体公司就造出了5nm蚀刻机。这一消息的传出在我国半导体领域，可谓是一石激起千层浪。而国际芯片龙头企业IBM都要比中微慢了许多。时间转眼间来到去年年底，尹志尧（中微半导体董事长）表示，中微半导体在研制进度上和台积电保持了高度一致，这也从侧面说明了，中微半导体公司在突破5nm蚀刻技术后，已经展开了3nm制程的研究。

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【西红柿小生|供货台积电，对我国半导体领域影响深远，5nm蚀刻机被中微造出】中微半导体公司研制的蚀刻机早已取得了台积电的认证。那么在台积电生产5nm制程芯片的时候，就会有纯国产设备的参与。 EUV光刻机在生产5nm这种尖端芯片的时候非常重要，但是5nm蚀刻机同样也不能缺席。
很多人会把光刻机和蚀刻机混为一谈，但是他们二者是有区别的。

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蚀刻工艺主要被分成2大类，分别是等离子干刻法和湿刻法，而蚀刻工艺难度又被分成了三种，最难的是硅刻蚀，其次是介质刻蚀。最简单的是金属刻蚀。中微半导体就是专攻介质刻蚀。而且在技术上实现了全球领先。

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众所周知，我国半导体行业起步较晚，而中微半导体公司是尹志尧先生在2004年创建的，那一年尹志尧先生60岁。中微半导体公司在创建之初就订立目标，要在20年左右的时间实现全球技术领先，而在中微半导体创建13年的时候就实现了这一目标，整整提前了7年，并且一举打破外技术垄断。
在半导体制造业，蚀刻机与光刻机一样的重要。我国在芯片进口中位居全球榜首，而半导体又关乎科技发展所以不能被国外抓住7寸，希望中微半导体能努力做出更好精度更高的蚀刻设备，让我们一起为中国半导体行业加油。