光刻机|性能提升十倍！“中国芯”再次突破？外媒：5nm光刻机成摆设？芯片|中国芯|it芯片

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众所周知，芯片的制造之路是很艰难的，他对整个工艺的要求是非常高的。还有一个最主要的问题就是高端的5纳米和7纳米芯片，只能够依靠荷兰ASML的光刻机才能够生产出来。现在美国技术的限制就是一个非常现实的问题，毕竟中芯国际已经购买了快两年多的光刻机都还没有发货，其他的国内芯片企业就更不用想了。
但是我们又不得不承认，芯片的工艺越是高端其性能就越强大，就拿即将成为绝唱的麒麟9000来说，其整体性能王超上一代的麒麟990 ，毕竟这将是全球首发的全新5纳米工艺制程，不管是晶体管数量还是集成度，也绝对是位于全球第一的。可即便如此，华为设计的芯片在高端没有台积电等制造商的制造，一切都是白扯。
但是前段时间有消息传出，即使不需要光刻机，也能够实现5纳米工艺芯片的制造，而且性能还能够相对的提升10倍，面对“中国芯”的再次突破，外媒纷纷表示，难道5纳米制造的光刻机将要成为摆设了吗？首先我们要非常清楚自己的缺点，这项5纳米的光刻技术还是需要我们去攻克的。
因为它采用的是石墨烯芯片，也就是在碳基芯片的基础上实现的技术优化，其最大的优点就是对光刻工艺要求很低，甚至不需要非常尖端的光刻机技术，但是我们现在的发展又遇到了一个瓶颈，那就是碳基芯片所需要的技术要求更加高端，如果这项技术被攻克，那就能够完完全全的摆脱当下的困境，并且还能够引领全球科技的发展。
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