中国|两名中国籍高校研究人员在美被捕，涉嫌妨碍FBI调查原标题：疯狂抹黑！两名中国籍高校研究

原标题：疯狂抹黑！两名中国籍高校研究人员在美被捕，美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

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两名中国籍高校研究人员在美被捕
【环球网报道采访人员侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员。据美国哥伦比亚广播公司（CBS）旗下媒体报道，美国司法部28日发布声明称，一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊（Guan Lei ，音译）因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局(FBI)的调查而被逮捕并起诉。
此外，弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周（Haizhou Hu ，音译）也于28日当天遭逮捕。
报道称，根据公开的关磊起诉书，美司法部宣称，他于7月25日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶。
在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝FBI检查其电脑的要求后， FBI找回了损坏的硬盘，发现该设备已无法修好。
【中国|两名中国籍高校研究人员在美被捕，涉嫌妨碍FBI调查】起诉书还声称，关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学(NUDT)并不实地否认他和中国军方有关。
CBS Los Angeles：加州大学洛杉矶分校因涉嫌破坏证据被起诉
美司法部声明称，关磊8月28日首度出庭，预计下个月17日传讯。
另据CBS19频道报道，根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息，现年34岁的胡海周于28日被捕，被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息，以及窃取商业机密。
美媒称，他25日曾试图从芝加哥某机场前往中国，但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码。
CBS19：弗吉尼亚大学研究员因联邦指控被捕
近来，美国国内不断有炒作所谓“中国渗透”的声音。
上个星期，美国司法部指控现年53岁的得克萨斯州农工大学教授成正东(Zhengdong Cheng ，音译)涉嫌串谋、虚假陈述和电信欺诈。

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