光刻机|荷兰ASML总裁：中国永远造不出价值1.2亿的光刻机，期待被打脸 asml

【光刻机|荷兰ASML总裁：中国永远造不出价值1.2亿的光刻机，期待被打脸】

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众所周知，我国的芯片技术比较落后，但是大多数人不知道的是，想要独立完成芯片制作，它的前提是必须有先进的光刻机技术。

而我国所拥有的光刻机比较低端，无法满足现代芯片工艺要求，为此美国就不断为此打压华为，很多人不理解了，为什么小小的芯片，我们要求助他国难道不能自己制造吗？其实，在芯片制造上之所以困难重重，就是由于我国缺少重要一环光刻机技术
荷兰ASML总裁：中国永远模仿不出EUV光刻机，高端的光刻机号称世界上最精密的仪器之一，所以制造难度相当大，这一点从一台光刻机能够卖到1.2亿美金的天价上就能看得出来。
目前，要数荷兰的ASML公司在光刻机领域上最顶级，日本的佳能和尼康公司分别止步于90nm和14nm的工艺技术节点来看， ASML公司早已经突破了5nm的工艺制程，可以说荷兰ASML公司相当于是将这一技术垄断了。
ASML公司的总裁甚至放出狠话说：像EUV光刻机这样的世界级顶尖的技术，中国是永远不可能模仿出来的。所以很多人认为，中国想要光刻机只能花天价从荷兰进口。真的是这样吗？其实我国已将光刻机国产化。我国在光刻机领域已经有所突破
由于荷兰ASML公司受到美国的压力，再过不久将会对我国的华为等企业停止供应产品，所以我国在面对这样不断地被其他国家卡脖子的处境下，在光刻机领域也受到一定程度得打击，但是毫无疑问这也推动了我国在光刻机领域得研发进程。
幸好，我国的上海紫光电子，在光刻机领域取得了新突破，这也在一定程度上扭转了我国被卡脖子的不利地位。
目前，我国的上海紫光电子已经突破了22nm的紫外线工艺技术，虽然与荷兰的ASML公司的技术还相差甚远，但是这样的突破对我国来说是有很大意义的，也意味着我国在光刻机研究上得到了指引。尽管我国光刻机技术离世界最先进得光刻机技术还有一些差距，，但是我国现在的成就已经很了不起了，毕竟我国在光刻机领域研究时间较短，我国也在大力发展光刻机技术，引进相关人才。
虽然在光刻机技术上我们还存在很多不足，但是我相信在我们国家政策的支持下，再加上我们科研工作者的坚持努力，不久的将来我们一定可以造出自己的先进光刻机，不亚于世界上一流的水准，而且我相信这一天不会太久！