号外News|光刻技术有了新突破，中科院再传好消息！中国芯又升级引言自从中国成功制造光刻机研发芯片不

引言
自从中国成功制造光刻机研发芯片不再依赖国外进口后，中科院再一次传来好消息，中国制造的芯片又一次成功升级，中国光刻技术有了新的突破。

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中国芯片研发之路
近两年中国科技一直在研发中国芯片，不仅仅是因为我国在芯片研发上一直受制于人，更是因为芯片近些年在各行各业都能得到广泛的应用。不仅是芯片，我国在科技研发上一直受到美国的压迫和制裁，加上美国对华为在芯片上的封锁，美国对我国自己制造芯片一直抱着不看好的态度。除了美国的不看好之外，还有荷兰对我国的“嘲讽” ，在重重困难之下，中国研制出了28nm光刻技术，但是这还不能达到我国的目标，因此，我国再接再厉，这次中科院又传来了好消息。

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中国5nm光刻技术获得重大进展
我国在今年先是成功研制出了28nm光刻机，后来随着科学技术的完善，中国经过多次努力又成功研制出了10nm和7nm技术工艺。最近终于成功突破了5nm最顶尖的光刻技术。虽然现在这项技术还没有得到完善，还需要进一步的研发，但是这也使我们国家人民看到了希望，有希望在不久的将来打破美国和荷兰的技术封锁，再一次创造出让世界感到惊讶的“中国制造” 。

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【号外News|光刻技术有了新突破，中科院再传好消息！中国芯又升级】今后不会再依赖荷兰ASML公司
如果我国能够成功研制出5nm工艺的光刻机，那将意味着我国今后将不会再依赖荷兰公司，可以一举打破荷兰光刻机在世界上的垄断，对于荷兰来讲失去中国的合作市场将会遭受到巨大的经济损失。对于我国来讲则是一种宝贵的经验。要知道中国研发5nm光刻机是非常不容易的，尤其是光刻机属于高端技术的突破，要想成功办好其前期经历过的艰难程度，也非常不容易，可想而知，中国在光刻机领域付出了多少努力和汗水。

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总结
中国一旦成功制造出5nm光刻技术，对于我国的航空航天、人工智能、5G技术以及区块链等方面都有重大的意义。虽然我国在光刻机技术研发过程中经历了很多困难，但是最终我国还是成功突破了美国对我国的封锁，在光刻机领域有了自己的一席之地，以后就有了自己的光刻机制造技术，不用再依赖荷兰ASML公司的光刻机技术，相信未来我国在光刻机领域还会有更多更好的成就。

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