华为|华为事件第443天!中国终于出手,全球首台新型光刻“横空出世”
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大家都知道 , 从去年5月16日到现在 , 也就是美国将华为加入“实体名单”事件发生到现在的第443天 , 一切都发生了变化 , 而且这种变化是巨大的 。 近日 , 有最新消息传出 , 加拿大已经正式通过了孟晚舟女士引渡美国的提案 , 对华为事件有所了解的人都知道 , 这就是该事件的关键点和起源 , 一旦加拿大事件发生变化 , 华为就会遭受到很大的影响 。
【华为|华为事件第443天!中国终于出手,全球首台新型光刻“横空出世”】
分析此前美国对待其他国家做出的事情 , 再来对比华为 , 可以说是狠之又狠 。 当初法国阿尔斯通就是被美国用这种方式搞垮的 , 在高管给扣留方面 , 相对还是比较好的 , 毕竟华为仅仅是孟晚舟一人 , 而阿尔斯通是整个高管层 , 无奈之下卖身通用 , 然而华为不是阿尔斯通 。
现在美国一边想方设法的想利用孟晚舟找到突破点 , 另一方面有紧盯着华为的芯片不放 , 从芯片问题上延伸出来的就是光刻机技术 , 没有这个玩意儿 , 中国高科技芯片企业就没有办法造出用高端的工艺造出芯片来 。 面对美国打压的不断升级 , 中国终于出手了!
没有荷兰ASML的光刻机?没关系!中国想办法给你造 , 现在全国研发资源进行了整合 , 正在全力的研发EUV极紫外光源、光刻胶、高NA浸没光学系统、光刻机双工件台系统以及区熔硅单晶片产业化技术 。 在各大研究院的不断努力下 , 现在全球首台国产新型光刻机设备“横空出世”了 。
目前已经应用到线下进行运行了 , 据了解 , 这是一款苏大维格大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000 , 虽然和ASML的光刻机都属于半导体制造设备 , 相对来说 , 在投影光刻机问题上还有待进步 , 毕竟光刻机技术不是说有就能有的 , 需要一点点进步一点点的解决问题 。
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