孤惯|“碳基芯片”研发成功，中国“芯”换道超车，不再依赖高端光刻机( 二 ) 集成电路在我们的应用中非常广泛

2、高端人才稀缺，工艺难度更高
彭练矛院士表示：“现代芯片制备有上千个步骤，其中一步做不好，就没有好的产品。最后是一个系统优化的问题，材料、器件、芯片设计等密不可分。碳纳米管的制造乃至商用，面临最大的问题还是决心，国家的决心。若国家拿出支持传统集成电路技术的支持力度，加上产业界全力支持， 3-5年应当能有商业碳基芯片出现， 10年以内碳基芯片开始进入高端、主流应用。 ”
我国的集成化电路的人才相对紧缺，反而材料和化工领域的高手很好找。想要将“碳基芯片”转成产业化的话，需要全国各大芯片设计和制造厂商一起研究开发和适配，并且除了硬件之外，系统的驱动和优化也是保证整颗芯片能否正常工作的主要原因，彭练矛院士表示，这项工作想要批量投入使用，至少需要3-5年的时间。
总结一下【孤惯|“碳基芯片”研发成功，中国“芯”换道超车，不再依赖高端光刻机】碳纳米工艺因其独特的性能，将更适合做3nm以下工艺的芯片。也将加速推动“摩尔定律”的发展。在芯片的发展历史上，碳基芯片或许是能打破硅基芯片瓶颈的一个新的方向，也是我国摆脱被高端光刻机卡脖子的重要手段，就算是需要光刻机辅助，想要让“碳基芯片”达到目前硅基7nm的水平，我们现在国产的光刻机就足够了。