光刻机|中科院入局光刻机，20年前已经开始？幕后英雄浮出水面！长春光机所

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或许是因为华为的原因，人们逐渐开始关注到芯片这个不经常见到的小东西，同时也开始了解到，芯片能够被应用到各种终端的电子产品上，是经过了很多复杂的过程，仅生产制造一个环节，就足以令我们眼花缭乱。
然而随着人们认知程度的提高，也已经知道，芯片生产制造中，一个关键环节就是光刻环节，其中就涉及到了关键设备光刻机，这或许就是大部分人能够了解到的最多情况。
我们知道，近日中科院正式宣布了，要开始进入光刻机领域，做到在国际上占有一席之地，既然确定了这样的目标，那么所要研发的光刻机，就应该是EUV光刻机。
很多人可能还不了解，目前光刻机主要是分为EUV光刻机和DUV光刻机，前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术， EUV是已经被确定的，用于制造先进工艺芯片的光刻机发展方向。
就在近日，中科院长春光机所宣布，长春光机所作为依托单位获批建设“中国科学院精密光电制造技术工程实验室” 。
然而这里的实验室并非我们常规理解的实验室，也并不代表着对某些技术研发的开始，事实上正相反，是推进相关领域科技成果转移转化的平台。
很显然，中科院长春光机所将成为中科院发展光刻机的幕后英雄，事实上，长春光机所早在20年前就开始了对EUV技术的探索。
自上世纪90年代起，长春光机所就开始专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV光源、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。
可以说这个时间与国际上开始对EUV技术的研究时间处在相同的水平，在之后的2002年，长春光机所就已经研制出国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。
然而就在三年前，长春光机所承担的国家科技重大专项项目， “极紫外光刻关键技术研究”顺利通过验收。
中科院微电子研究所所长叶甜春表示，长春光机所光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰苦任务的队伍，也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。
就在当时，我国科技部原副部长曹健林，作为国内熟悉EUV光刻的领域专家之一，其表示， 30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实。
所以我们看到，中科院虽然是刚刚才如此正式的宣布要攻破光刻机，但对光刻机的布局其实已经有了近三十年的历史，这就像之前任正非所说的：我们有准备，不是说说而已。
可以说，这句话用在中科院身上非常合适，我们不是说说而已，而是有着充足的准备。
而且想必也已经有朋友了解到，在今年的七月份，中科院苏州纳米所，推出了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
所以整体来看，中科院在光刻机，尤其是目前最先进的EUV光刻技术领域，有着二十多年的技术积累，目前已经开始走向成果转化，用中科院白院长的话说，就是解决一批“卡脖子”的问题。
当然，极紫外光刻技术难度如此之外，长春光机所是“极紫外光刻关键技术研究”项目的牵头单位，成员单位还包括像北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学这样的大学机构。