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众所周知 ， 芯片产业是现代制造业的基石 ， 没有先进的芯片产业 ， 就没有先进的现代制造造业 ， 先进制造业也就成了无本之源 ， 无本之木 。 长期以来美国把持着全球50%以上的芯片出口 ， 去年国内进口的芯片超过了3000亿美元 ， 其中一大部分落进了美国的口袋 。 为此 ， 国内重金全力投资芯片产业 ， 多年来也涌现出了中芯国际、华为海思这样的一大批芯片设计和制造企业 。

特别值得一提的是华为海思 ， 近年来华为大规模重金投入芯片产业 ， 短短几年华为海思就脱颖而出 ， 先于芯片巨头高通研发出了全球首颗麒麟990 5G芯片 ， 鲲鹏920服务器和PC芯片等华为五大重要芯片 。 尤其是华为备胎芯片转正后 ， 华为手机上使用的35种芯片中 ， 居然有16种芯片为华为自研 ， 而且在半年的时间内华为就实现了芯片的非美产业链 。 这不仅意味着华为海思已成功带上全球十大半导体公司的光环 ， 而且在ICT芯片设计领域已经媲美美国的高通 。 这从华为1020 5nm5G芯片8月份上市 ， 而高通875芯片要到明年年初才能上市 ， 就能看出来其中的差距 。
为此 ， 美国再次出台对华为芯片最严苛禁令 ， 也就是说华为的长期合作伙伴台积电、中芯国际、三星等几家重要的芯片制造企业 ， 因为大量使用美国半导体技术和设备 ， 今后将失去为华为生产芯片的机会 。 这几家芯片制造商涉及到的最关键的涉美技术就是光刻机 ， 而ASML光刻机使用了大量的美国技术 ， 要知道芯片制造中光刻机占比达到了40% ， 这意味着华为芯片来源将陷入困境 。

就在华为一筹莫展之时 ， 上海微电子的一则公告让华为放下了悬着的心 。 近日 ， 上海微电子正式宣布将在2021推出首款使用ArF光源的28nm光刻机 ， 这款光刻机经过多重曝光技术完全可以生产11nm芯片 。 如果这款光刻机使用华卓晶科更高标准的1.7nm工作台 ， 再经过多重曝光技术则能够生产出7nm芯片 ， 这样就解决了华为7nm芯片的难题 。 顺便提一下 ， 华卓晶科的双件工作台已经打破了ASML的垄断 ， 大幅提高了光刻机产能 ， 基本实现了光刻机不再受ASML的垄断 。

虽然这台光刻机暂时还无法生产出最先进的5nm和3nm芯片 ， 距离最先进的光刻机仍然有很大差距 ， 但也算是巨大的进步了 ， 至少将中国芯片制造设备和技术向前推进了一大步 。 实际上光刻机最核心的技术就是ASML独有的芯片曝光机 ， 荷兰ASML的EUV光刻机之所以先进就是因为EUV曝光技术 。 据悉上海微电子已经同步启动了下一代光刻机的研制 ， 其中最受关注的DPP?EUV光源研制也在长春光机所启动 ， 再加上双件工作台的推出 ， 假以时日 ， 国内企业必将打破EUV光科技的垄断 。

实际上 ， 这些年我们并不是研制不出来光刻机 ， 主要是因为光刻机市场太小 ， 没有厂商愿意投入而已 。 现在华为被卡脖子了我们才发现 ， 国产芯片产业要发展没有光刻机还真不行 ， 因为光刻机已经成为了国产芯片制造产业的死穴 。 要想芯片制造产业不再受于人 ， 必须研发自己的光刻机 ， 打破国外对EUV光刻机行业的垄断 ， 芯片产业才能爆发性增长 。

【芯片：华为芯片有救了，上海微电子正式宣布，美国对华为芯片断供彻底破产】