光刻机|精度达到3纳米！国产设备再迎喜讯，重要性不亚于光刻机芯片|半导体

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重要性不亚于光刻机在我国自主造芯的过程中，半导体设备的重要性被无限放大，尤其是被誉为工业皇冠明珠的光刻机，是我们实现“中国芯”这一目标必须要跨越的“藩篱” 。
由于光刻设备昂贵、复杂、精密的特性，加上舆论的烘托，以至于很多人都以为只要我们实现了光刻设备的国产化，就等于实现了芯片的自主。
事实上，芯片制造产业链中，还有一项设备同样至关重要，其作用丝毫不亚于光刻机，它就是蚀刻机。
在半导体设备方面，虽然我们整体处于较为落后的局面，不过，在刻蚀领域，我们却丝毫不比外国差。
国内最先进的刻蚀巨头，中微半导体在去年末就已经自主研发完成了精度达到5nm是刻蚀设备，达到了国际一流水平，并获得了台积电和三星这两大代工厂商的竞相采购。
再获突破，精度达到3nm令人振奋的是，仅仅半年时间，国产蚀刻机再进一步，领航全球！
近日，据媒体报道，中微半导体宣布研发完成了3nm蚀刻机，包括设计、制造组装、性能检测在内的几乎所有技术都是100%国产。
知情人士透露，为了防止老美“窃取”我们的科研成果，中微已经申请了相关必要专利。值得强调的是，一切就绪的3nm国产蚀刻机已经开始量产。
此前，市场上主流的刻蚀设备是5nm蚀刻机，掌握该技术的企业不在少数。不过，随着中微3nm蚀刻机的横空出世，这家国产巨头成了全球唯一有此技术的企业。
这意味着，传统芯片若想向3nm或者2nm迭代，将绕不开中国制造的3nm刻蚀设备，我们在全球芯片市场，或将自此拥有相对的话语权。
“中国芯”开始提速要知道，老美之所以敢五次三番的制裁华为等中企，是因为人家有的技术设备我们没有，而且在他们看来，在短时间内我们难以研发出来。然而，它低估了我们实现技术设备自主的决心。
此次中微的3nm蚀刻机，或将一举改变老美在该领域的主导地位；更重要的是，能够很大程度地提升国产科技企业坚持自研的信心和士气！
众所周知，芯片制造是重资产行业，投资大、回报周期长，而且技术要求门槛高，在去年中科院宣布入局光刻研发之时，全球最大的光刻厂商ASML就曾泼来冷水，表示即便给我们图纸，我们也造不出来。这无疑让很多跃跃欲试的投资者都望而却步，显然不利于国产半导体产业的发展。
不过中微却向世界证明了，哪怕是再尖端的技术设备，也都是人造的，而非神造的。我们在刻蚀领域能做到后来居上，那么光刻设备就一样可以！
总结
随着上海微电子的国产28nm光刻机的年内商用、中国电科离子注入机的全谱系国产化、南大光电Krf高端光刻机进入市场，弥补设备短板后的国产半导体，将再无“绊脚石” 。
【光刻机|精度达到3纳米！国产设备再迎喜讯，重要性不亚于光刻机】“中国芯”已开始提速，与老美的这场“科技博弈”胜负已然明了，相信用不了多久，全球遍地都随处可见来自中国制造的芯片。