[垂帘看世界]中国攻克芯片高端设备, 巧妙避开国外专利壁垒!，打破垄断! 我们的国家这几年在世界上大放异彩

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我们的国家这几年在世界上大放异彩，吸引了世界各国人们的眼光，这巨大的吸引力后面有很多小伙伴的付出，他们所做的努力让我们的国家有了现在的发展。
如今我们的国家在经济发展上越来越突出，国家的建设越来越完善。甚至在基建上创造了很多不可思议的工程，航天航空上的发展也是不可忽视的。但是在我们的国家不断强大的过程中，有些国家就对我们实行了封锁。
很多人都说，很多被其他国家封锁的国家都在独立发展上就很艰难，但是我们的国家就是一个例外，反而是越来越强大。

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很多时候其他的国家对我们实行封锁，不让我们使用某种专利，我们的国家就能自己将这个“被封锁的东西”研究出来，甚至很多的时候我们制造出来的东西能达到很高的水平。比如我们国家在“芯片”方面的发展就一直受到其他国家的阻碍，因此在这方面的发展就相对落后。
但是我们国家的人怎么可能轻易就放弃呢。今天我就来和大家说一下中国攻克的芯片高端设备，光刻机，这一台设备巧妙地避开来国外专利的堡垒，也彻底地打破国外垄断。

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光刻机是制造芯片的很重要的设备之一，我们都知道半导体的生产设备都是极其昂贵的。但是最贵的机器就是光刻机，因为它所做的工作是极其精密的，甚至这一台机器的先进水平可以决定芯片生产出来的先进程度，也因为没有我们自己研发的芯片，我们国家就一直很被动。
而这一次我们国家的光电研究所研制出来的光刻机是非常强大的，并且也填补了我们的国家的一项空白。这一台机器它是全球第一台使用紫外线的光源而实现曝光度达到22纳米的机器。

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并且使用了多次曝光的技术。这一点上我们国家成功地绕开了国外的专利堡垒。因为目前世界上的很多光刻机使用的都是深紫外光源的技术，它分辨率的极限达到34纳米，如果想在这一基础上有所提高，就需要用多重曝光的技术。
【[垂帘看世界]中国攻克芯片高端设备, 巧妙避开国外专利壁垒!，打破垄断!】但是这些技术涉及到了国外的知识产权，并且他们给出了很高的价格，因此我们的国人就放弃了运用国外专利的计划，使用了产生波长比较短的电磁波在光刻上！

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成功的绕开了知识产权这个巨大的障碍，也让我们的芯片制造有了进一步的发展，也打破了国外的垄断，这真的是一件骄傲的事情。