现阶段 ， 我国追赶国际半导体设备巨头的玩家仍屈指可数 。 在光刻机领域有上海微电子一马当先 ， 在刻蚀机领域则有中微半导体和北方华创双双出击 。
但在阶段性的成果背后 ， 我们也要看到国内玩家与全球巨头在技术水平、市场规模上还存在较大差距 ， 而造成这一差距的不仅仅是落后了数十年的技术经验 ， 也有着巨大的资金投入差异 。
未来 ， 我国的光刻机和刻蚀机仍需面对许多挑战 ， 但经历20年发展所取得的阶段性成果 ， 我们有理由相信在未来 ， 国产光刻机和刻蚀机终将发挥无限的潜力 。

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