『』美国最惧怕的中国企业，能造出5nm蚀刻机，起诉它反遭受巨额损失

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作者：滕飞
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编辑：浅梦
如今互联网产业发展的如火如荼，其实完全取决于硅制造。所有互联网使用的芯片，都是来源于对硅的研制。
那么，在硅制造中，半导体工艺属于核心工艺，那么在半导体工艺当中，又需要许许多多的软硬件设备。
就拿其中的IC制造来说，它需要光刻机、蚀刻机等等核心技术装备，而光刻技术是其中高难度的一种，因为它对技术要求特别高，而且非常精细。截至目前，荷兰是世界上光刻技术NO.1的国家。而中国最领先的是蚀刻技术。
所谓蚀刻，也是用化学或物理手段，来剥离硅片表面的无用物质。在对硅原料的加工中，刻蚀技术的难度，要远远低于光刻技术，刻蚀技术的目的，在于完美地保护上边的图案。从蚀刻技术的方法，又可以将蚀刻分为干法刻蚀和湿法腐蚀。
【『』美国最惧怕的中国企业，能造出5nm蚀刻机，起诉它反遭受巨额损失】
干法刻蚀又称等离子刻蚀，从它的名字就可以看出它是不接触液体的，主要是通过提取那些置放在空气中的硅片所产生的等离子，然后再让这些等离子与硅片发生某种化学或物理反应，从而剥离暴露表面的物质。
通过此方法产生出来的芯片，都是十分精细的，差不多是一根头发的几千分之一，所以干法刻蚀的技术要求，是特别高的。
就拿16nm的工艺来说，其经过上千层的工艺，有60多个微观结构。干法刻蚀主要适用于集成电路制造，从其所使用的原材料，又可将其分为介质刻蚀、金属刻蚀和硅片刻蚀。
湿法腐蚀就是利用化学液体，来剥离硅表面的物质，其主要适用于尺寸较大的材料。而中国上海的尹志尧所研发出的湿法腐蚀，已经占据了世界第一的位置，被称为“硅谷最成功的华人之一” 。
中国的湿法腐蚀技术如此纯熟，尹志尧功不可没。然而尹志尧成功的背后，江上舟的付出也是有目共睹的。江上舟对我国湿法腐蚀技术的贡献，是无可厚非的，但是他却在2011年因癌症去世。
美国最惧怕的中国企业，能造出5nm蚀刻机，起诉它反遭受巨额损失。在尹志尧、江上舟等人的努力之下，中微终于成立了，但是中微却一直遭受美国的遏制。
可以说，中微是遭受美国起诉最多的一家公司，但这屡次的起诉中，中国都胜诉了。可见，中国的实力是不可估量的。
美国在经历了多次败诉之后，已经遭受了巨额损失。如今再也不敢贸然挑事，只能选择谈判的方式。
中微之所以成功，是因为中微的保密协议、专利申请、找到雷区、专利保护以及遵守法律这五点。而且，目前上微和北微也在续存实力当中，所以，中国超越西方，是指日可待的。
来源：搜狐网
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