快科技@传Intel 2021年用上台积电6nm 2022年直接上马3nm工艺


在半导体工艺上 , Intel的10nm已经量产 , 但是官方也表态其产能不会跟22nm、14nm那样大 , 这或许是一个重要的信号 。 此前业界多次传出Intel也会外包芯片给台积电 , 最新爆料称2022年Intel也会上台积电3nm 。
来自业界消息人士@手机晶片达人的爆料称 , Intel预计会在2021年大规模使用台积电的6nmn工艺 , 目前正在制作光罩(Mask)了 。
在2022年Intel还会进一步使用台积电的3nm工艺代工 。
快科技@传Intel 2021年用上台积电6nm 2022年直接上马3nm工艺
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在更早的爆料中 , 手机晶片达人指出Intel 2021年开始外包外公的主要是GPU及芯片组 , 还警告说2021年苹果、海思、Intel及AMD会让产能非常紧张 。
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假如Intel真的打算扩大外包 , 除了已经部分外包的芯片组之外 , 首当其冲的就是GPU , 因为GPU相对CPU制造来说更简单一些 , 而且台积电在GPU制造上很有经验 。
结合之前的消息来看 , Intel的Xe架构独显DG1使用的是自家10nm工艺制造 , 今年底上市 , 拥有96组EU执行单元 , 一共是768个核心 , 基础频率1GHz , 加速频率1.5GHz , 1MB二级缓存以及3GB显存 , TDP为25W 。
预计DG1的性能与GTX950相当 , 比GTX 1050则差了15%左右 , 总体定位不高 , 适合高能效领域 , 尤其是笔记本GPU 。
DG1之后还会有DG2独显 , 这就是一款高性能CPU了 , 之前爆料DG2会用上台积电的7nm工艺 , 现在来看应该是7nm改良版的6nm工艺了 。
不过2021年Intel自己的7nm工艺也会量产 , 官方早已宣布用于数据中心的Ponte Vecchio加速卡会使用自家的7nm EUV工艺 。
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