中国芯片走投无路？好消息来得真及时，EUV光刻机自主研发有望解决在2月23日的时候

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在2月23日的时候，美国国会参议院表示正在启动一项新的议案，该议案提出美国将投入多达1000亿美元，用于半导体产业。按照美国的计划，这笔钱将用来构建美国芯片产业完整的产业链，而之所以本就芯片产业发达的美国还要有这么大的投入，其原因就在于彻底扼杀中国芯片产业的崛起。
我们知道，如今美国针对中国的科技公司已经下达了芯片禁令，导致我们无法进口高端芯片，而中国的高端芯片一向的弱势产业。另外，为了应对中国芯片自主研发，美国人打算完善本国芯片产业，从而在未来的技术与市场上让中国芯片彻底无路可走。对于中国芯片而言，只能走自己的路，并且还要与时间赛跑，在被美国人彻底锁死之前攻克高端芯片难关。
然而，高端芯片的研制，需要高精密的光刻机设备，而这种设备只有荷兰公司会出售，但美国同样对荷兰公司下达了禁令，也就是说，我们要给国产芯片找到出路，必须首先研制出高端光刻机。高端光刻机的技术相当复杂，甚至比一款高性能航空发动机还要难，那么中国芯片真的走投无路了么?不过这句话对中国并不适用，因为我们可以创造奇迹。
根据清华大学官方网站2月25日的消息，由清华大学教授唐传祥所领导的科研团队与德国研究团队在权威学术杂志《自然》上发表了一篇名为《稳态微聚束原理的实验演示》的研究论文，这篇论文的核心便是通过试验验证了一种名为“稳态微聚束的”新型粒子加速器光源原理。

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据获悉，此次试验基于SSMB原理，通过试验可以获得波长覆盖从太赫兹到极紫外波段，而极紫外波段又被称为EUV波段。是的，很显然这与荷兰光刻机公司所生产的EUV光刻机有关系。 EUV光刻机被称为极紫外光刻机，其原理便与EUV光谱有着密切的关系。
【中国芯片走投无路？好消息来得真及时，EUV光刻机自主研发有望解决】简而言之，此次清华团队对于SSMB光源关键技术的验证，使得EUV光刻机自主研发有望解决，因此这种技术研究的一个方向就是作为未来EUV光刻机的光源，为将来EUV光刻机的研发奠定基础。而一旦我国实现了EUV光刻机的自主研发，像5nm、7nm等高端芯片也便能自主生产，我国将彻底解决芯片“卡脖子”问题，可谓是好消息来得真及时。
我们可以看到，美国人刚出台针对中国芯片的政策，这边很快就攻克了一道技术难关，可以说将压力转化为动力是我们中国人独有的技能。根据工信部的说法，尽管遭到西方的封锁，但我国芯片产业实际上已经迈入第一梯队，在低端芯片领域甚至要超过美国，能满足国内基本的芯片需求，而剩下的便是缩短与西方国家在高端芯片领域的差距了。
好在我国芯片产业的基础已经打牢，可以集中精力来研制高端芯片，虽说要彻底解决高端芯片问题，可能还需要10多年，但至少前方是充满希望的。
责任编辑：李涌