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情况越发复杂了！在美国对华为终极禁令生效后 ， 各方反应截然不同 ， 让情况变得越来越复杂了 。
中国方面 ， 在美国最终禁令生效后的第二天 ， 院长白春礼宣布重要决定 ， 表示将集全院之力攻克光刻机等关键技术 ， 帮助中国企业摆脱被西方国家卡脖子的困境 。
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而在中国宣布将举国之力研发光刻机后 ， 微软创始人比尔·盖茨站出来质疑美国政府 ， 认为对华芯片出口限制令对美国的发展没有丝毫好处 ， 这将让美国失去高薪岗位及全球最大的芯片消费市场 。
欧洲方面 ， 以德国英飞凌公司及达索为例 ， 在美国终极禁令生效后 ， 它们相继做出表态 ， 一方宣布自身不受美国禁令限制 ， 另一方则表示会加快技术去美化 ， 都相继传达出要扩大在中国发展规模的信号 。
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美国方面 ， AMD公司副在近期宣布该司已经获得许可证 ， 可以向某些被限制的客户供货 。 不过AMD并没有明确表示是获得向华为供货的许可证 ， 但业内猜测大概率是向华为供货的许可证 。
华为方面 ， 在美国终极禁令生效后 ， 任正非亲自率领华为高层访问 ， 得到了院长白春礼的热情接待 ， 双方明确表示将加强在基础研究及关键技术领域的合作 。
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第二个信号是光刻机 ， 上文提到 ， 在美国终极禁令生效后的第二天 ， 就表示将举全院之力攻克光刻机等核心技术 。 而华为在早些时候又被媒体爆料将进军IDM模式 ， 实现芯片自主设计制造 。
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对华为来说 ， 是国内最强大的科研单位 ， 如果说中国有哪一家机构能率先研发出高端光刻机 ， 那非莫属 ， 所以这次任正非访问 ， 也有为光刻机奔走的成分 。
【第二个信号是光刻机，所以这次任正非访问中科院，释放了三个信号】第三个信号是国企民企将加强合作 ， 在此次交流中 ， 双方都强调要在现有合作基础上进一步加强在各领域的合作 ， 共同把握创新机遇 ， 推动研究成果的落实 。 这证明 ， 在美国的压力下 ， 国企跟民企正在走向融合 ， 加强技术交流 ， 共同合作加速国内科技的腾飞 。
【第二个信号是光刻机，所以这次任正非访问中科院，释放了三个信号】
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值得一提的是 ， 国内科研机构及企业因美国禁令的压力逐渐走向合作的时候 ， 美国却传出了坏 。
据国际半导体协会发布的报告显示 ， 受美国出口限制措施影响 ， 今年以来海外客户对美国芯片及设备的购买量出现大幅度下降 ， 给美国半导体企业带来了巨大的影响 ， 预计造成损失达到1700亿美元 ， 约11634亿 。
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有国际专家认为 ， 中国因美国方面的压力正在走向团结 ， 携手攻克难关 。 而美国半导体行业却因为政府禁令 ， 陷入危机 ， 长此以往 ， 中美半导体产业的差距恐怕会被拉近 。
此外 ， 现在中国已经在发展第三代半导体 ， 相比于第二代半导体 ， 第三代半导体对设备的要求并不高 ， 这无疑是给了中国半导体产业弯道超车的机会 。
本文相关词条概念解析：
光刻机
光刻机/紫外曝光机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统等 。 常用的光刻机是掩膜对准光刻 ， 所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序 。 Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶 ， 然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程 。
来源：(未知)
【】网址：/a/2020/0921/kd528829.html
标题：第二个信号是光刻机，所以这次任正非访问中科院，释放了三个信号
