【10年仅花6亿经费，光刻机之痛，上海微电子这家中企很厉害|光刻机之痛随着老美对我们国产科技公司】

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光刻机之痛
随着老美对我们国产科技公司变本加厉的压制行为，让国内意识到了技术自主的重要性。尤其是在半导体行业，国产芯片必须摆脱对美企技术的依赖，才能获得更好的发展空间，不然的话只会处处受制于人！
10年仅花6亿经费，光刻机之痛，上海微电子这家中企很厉害
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相信大家都知道，这几年国内的华为公司遭受到了老美的不公正对待，在很多方面的发展都受到了一些不利影响。特别是在今年，华为的芯片供应被老美封锁了，目前的处境并不是很乐观。
对于华为而言，芯片供应是一个非常重要的环节，如果出了什么岔子，那么它的手机和通信业务都会大受影响。但是在老美的封锁措施下，几乎所有的供应商都无法再向华为提供任何芯片产品，因为它们避免不了对美企技术的依赖。
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对于我们国内来说，虽然很想要帮助华为，但是由于芯片技术水平落后于老美，所以无法承担起为华为生产芯片的重要任务。也就是说，国内的代工厂或供应商不能成为华为的新选择，它们的技术达不到要求。
至于为什么会出现这种情况，是因为光刻机的限制，这台人类能造出来的最顶尖的机器设备限制了很多公司的发展。顾名思义，光刻机最主要的作用就是进行光刻，而这正是半导体芯片生产过程中必不可少的步骤！
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换而言之，光刻机是生产芯片必备的机器，如果没有光刻机的支持，芯片就无法生产出来。更重要的是，光刻机也有精度之分，只有更高端的光刻机才能生产出先进的芯片产品。
国内之所以无法为华为生产芯片，就是因为缺少高端光刻机的支持。截至到现在为止，全球范围内能生产出高端光刻机的公司只有一家，那就是来自于荷兰的ASML！它在整个市场中占据着垄断的地位，而且高端光刻机不是有钱就能买到的。
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据悉， ASML公司一年也只能生产出一两台高端光刻机，并且早已经被各大客户预定了。其中台积电更是享有优先拿货的地位，这也是它为什么能成为世界第一芯片代工厂的重要原因！
可能很多人都在想，为什么只有ASML公司能生产出高端的光刻机呢？难道我们一个国家的力量还比不上它一个公司吗？其实这个问题的答案很简单，因为ASML公司是集合了整个欧洲和美国的力量才能掌握领先的光刻机技术！
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所以说，国内无法攻克高端光刻机是很正常的事情，毕竟那么多国家联合在一起才造就了一个ASML公司。不过，这种情况也不是绝对的，如今我们国内已经涌现出了一个出色的光刻机制造商！
上海微电子
这家公司的名字叫做上海微电子，一直致力于研发光刻机技术，为国内的芯片事业作出了很大的贡献。在过去的十多年时间里，国内大多数企业都信奉“造不如买”的道理，导致基本上没有什么公司愿意继续研发技术，而上海微电子却是一个例外！分页标题#e#
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虽然这家国产科技公司名声不显，但是经过数十年的研发，上海微电子终于掌握了一些核心技术，国内首台90nm光刻机就是出自于它的手下！90nm看似很粗糙，而且和ASML公司还有着差距，然而上海微电子研发过程中的艰辛却没人知道。
由于当时的公司都注重买而不是自己造，所以上海微电子这个“异类”并不被人们看好。这也导致了在十年的时间里，上海微电子只有六个亿的研发资金，远远不足以支撑它的正常发展。
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但是就是在这种情况下，上海微电子克服了一切艰难险阻，并且不断地取得突破，最后终于填补了国内在光刻机领域的空白！换而言之， 10年仅花6亿经费，却造出中国顶尖光刻机，上海微电子这家中企很厉害！
更重要的是，如今上海微电子更进一步，已经自主生产出来了28nm光刻机，基本上能够满足7nm芯片的条件。据悉，上海微电子的28nm光刻机将于明年正式投入使用，届时国产芯片将获得更好的发展空间！
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写在最后
为了国产技术的崛起，国内有很多公司都在默默地奋斗着，并且能够在需要它们的时候站出来，上海微电子就是最好的例子！希望未来这些国产科技公司能够发展得越来越顺利，同时也相信国产技术一定能完成崛起！
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本文相关词条概念解析：
光刻机
光刻机/紫外曝光机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。