80年代我国光刻机领先世界,为何如今大幅度落后为何如今大幅度落

80年代我国光刻机领先世界，为何如今却大幅度落后？说明一个真理科学技术，在如今的社会里，绝对是能够左右一个国家强大速度的核心力量。在最近的世界上，一个十分专业的词语充斥了整个网络，那就是光刻机。关于ASML公司对于光刻机领域的巨大突破，让对此一无所知的我们都已经知晓一二了。所有媒体都在夸赞ASML公司的强大，但殊不知我国在80年代的时候就已经光刻机技术领先世界，只是如今已经大幅度落后了。那么这到底是为什么呢？一切都只说明了一个真理。

光刻机，又名掩模对准曝光机，是如今芯片制作工艺中极其重要的一种设备。它需要拥有极高精密度的机械制造工艺，并且在半导体技术和集成电路技术上的造诣都需要非常高。如此苛刻的制造要求，也是导致如今对光刻机制作困难的地方。上世纪五十年代到八十年代，这是我国各方面都在迅速发展的一个时间段，诸多技术都因此获得了极大提高，电子半导体领域就是其中的一员。在钱学森、钱三强等这一大批科学家归国后，国家对科技发展提供了强有力的支持，这也让我们各个领域都开始了独立研究，并且取得了非常显著的成果。

1965年，中国科学院研究出了我国第一部65型接触式光刻机。在当时，能够独立建造出这种光刻机的国家可是极其稀少的，而这一成果也意味着我们在当时处于世界的前列。 1970年，中科院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺，并在1977年完成了我国最早的光刻机GK-3型半自动光刻机的制作。1980年，清华大学研制第四代分布式投影光刻机取得了成功，在次年中科院也研制出了JK-1型半自动接近式光刻机。一直到1985年前，我国的光刻机在世界上都是毫不逊色的，一度能个达到前列。同时我们的技术也在稳定的发展，想必只要这样保持下去达到世界顶尖水平并不是一件难事。只可惜在1985年后，一切都变了。

在1985年，随着越来越多外来公司的入驻，我国的研发人员们开始发现了外国技术水平的先进之处。而在这时，我们刚刚制造出分步光刻机样机，据测定已经达到了美国的4800DSW标准，与世界差距仅仅7年。但是研究的瓶颈和大量的投入让这些研发部门在面对国外更先进更划算的现成产品心动了，于是一股“造不如买”的热潮掀起，开始大量引进外资，从此停止了对光刻机的研发。这样的情况就导致了那些技术公司断了资金来源，要么面临破产危机，要么不得不转型谋生。同时在九十年代的时候，光刻机的技术已经卡在瓶颈20年之久了，这就彻底摧毁了国内技术部门的信心。

但在1996年西方《瓦森纳协定》签订后，技术的出口突然收到了控制。没有人研发也失去了进口的途径，我国的光刻机顿时陷入荒芜，从此与世界脱轨。直到2002年上海微电子装备有限公司的成立，我国的光刻机才有了起色，并且受到了国家的鼎力支持。如今，我国在光刻机领域方面正在努力突破，上海微电子也有了非常不错的成功。在目前世界光刻机行业的排名里，荷兰ASML无疑是第一，而上海微电子就排在第四位，纵使有差距，也已经十分不错了。

正所谓“以人为镜，可以明得失” ，曾经的我们有着能够媲美世界顶尖的光刻机技术，但最终还是荒废了。而这些事也说明了一个真理，只有一个国家真正自己强大了，掌握了尖端技术了，才不会受制于人。想必这也适用于世界上任何一个国家了。作者：佚名来源：新浪微博