半导体它是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质 ， 它其中的电导率容易受控制 ， 但也是作为信息处理的元件材料 。 芯片则是半导体里的一个集大成者 ， 而现在芯片的利用率非常的高 ， 必然 ， 如果要想有一些技术领域的突破 ， 就势必要在芯片领域有所发展 。

那让我们了解一下光刻机 ， 光刻机又名 ， 掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统等等 。 常用的光刻机是掩膜对准光 ， 所以叫 Mask Alignment System 。 简单明了的说 ， 光刻机就是在制造芯片时是一个不可或缺的工具 ， 因为没有光刻机就等于没有芯片 。

荷兰的大多部分芯片公司都是使用其ASML进行缔造的 ， 并且得到了EUA光刻机的支持 ， 以用于芯片缔造技术 。 该光刻机的技术发展非常的先进 ， 再加上荷兰公司已经在很多方面供应了支持 ， 因此光电子学的发展有了巨大的进步 。 他们的公司可以制造可以达到5纳米的芯片 ， 而这种技术在全球范围内得到了宽泛报道 。

目前中国唯一可以缔造光刻机的厂商是位于上海 ， 上海微电子 ， 也是目前中国独一无二的光刻机缔造厂商 。 上海微电子与荷兰ASML的成立时间有较大的差别 ， 时间于2002年是上海微电子的成立 ， 而时间于1984年是荷兰的ASML的成立 ， 对比来说 ， 1984-2002 ， 我国光刻机的研发起步晚了荷兰近20年 ， 但是没关系 ， 上海微电子成立以来发展较快 ， 正在全力追赶荷兰ASML 。

历经多年的自主创新不断发展进步 ， 目前我国上海微电子已经掌握了先进封装光刻机 ， 高亮度LED光刻机等高端智能制造领域的先进技术！随着我国越来越多的才子 ， 目前上海微电子人才队伍和管理团队也逐渐扩大 。

虽然目前我国光刻机跟荷兰光刻机还是有一定的差距 ， 但是上海微电子也不会停止进步的脚步 ， 上海微电子也正在全力追赶着 ， 愿尽量早日能成为顶尖机器！但是这种顶尖机器的研发需要长期的技术累积 ， 绝不是一蹴即至的 。 祝愿我国发展越来越好！