中芯国际绕过ASML光刻机，可做出7nm芯片

台积电着急了，中芯国际绕过ASML光刻机，可做出7nm芯片纵横看点9小时前一晃眼， 2020年已经过去了快二分之一，在疫情逐渐平稳之后，我国经济逐渐恢复，企业也已经恢复运营，今年原本是科技领域全方面台积电着急了，中芯国际绕过ASML光刻机，可做出7nm芯片！爆发的一年， 5G网络技术的快速普及所带来的变革，本该快速将全世界人民的生活革新，但疫情延缓了我们变革的步伐，不过掌握着核心科技的科技企业虽然脚步有所减缓，但仍旧稳步向前。据悉，中芯N+1工艺的芯片将于年底量产，比14纳米功耗降低了57%、逻辑面积小了63%、SOC面积减少55% 。这换算下来，正是7纳米芯片。

尽管没能从荷兰引进7nm制造工艺的光刻机，但中芯国际也可以绕过ASML光刻机，采用N+1工艺制造出接近7nm工艺的芯片，近日，中芯国际称N+1工艺的芯片将于年底量产， N+1工艺对比14nm功耗降低了57%、逻辑面积小了63%、SOC面积减少55% ，这换算下来，正是可以比肩台积电的7nm芯片，也就是说，我们没有ASML的EUV光刻机，也能做出7nm芯片。

5G基站芯片明显提升至于台积电另一5纳米大客户华为海思没有减少投片，但产品线内容有所调整，虽然5G手机芯片的投片延后，但5G基站芯片的投片量明显提升，以因应大陆加速5G新基建强劲需求，当然，在芯片制造过程中，还有一种设备被人经常和光刻机搞混，那就是刻蚀机，很多人都把这两种机器混为一谈，其实并不是的，两种设备的作用似乎有点相反，光刻机用来在硅晶圆上刻画电路图，而刻蚀机则是把没刻画电路图的晶圆去掉，这两种设备在芯片制造中，都很重要，只是因为国产的刻蚀机水平完全是世界领先的，早已摆脱了对国外厂商的依赖，所以大家提得相以较少而已。一直以来，我国在芯片领域上总是受制于西方国家，现如今我国中芯国际已经是全球第三家拥有10nm以下制程工艺技术科技企业，而芯片领域一直的霸主，台积电应该会十分地着急，因为一旦我国的制程工艺技术完善，那么我们便会马上削减给其的订单，并且我国中芯国际此次绕过了荷兰ASML成功生产7NM制程工艺芯片，那么在此后我国在芯片领域中也不会再受制于光刻机这一点了。