【「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？( 二 )|荷兰|差距|芯片|台积电|arm|光刻】

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ASML公司垄断了全世界的高端光刻机，中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90纳米的光刻机，这已经十分不容易了，这可是0的突破。
那么，国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？
光刻机包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器。有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下，要知道一根头发直径有6万纳米。1毫米=1百万纳米，所以光刻机的精度要求几乎是普通机床的百万倍。目前ASML现在又要进击了，目标：1纳米！
「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？
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而反观国内，由于起步较晚，上海微电子装备公司在起步晚、技术薄弱的情况，还是研发生产了90纳米制程的光刻机。近期更是迎来了研发生产出22纳米的光刻机，代表国产光刻机的最高技术。虽然和ASML在技术上还有很大的差距，但是只要行动起来，有一群甘心研发的人，总会有赶超的那一天。你觉得呢？

稿源：(科技有点牛)

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标题：「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？( 二 )

傻大方

「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？( 二 )

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