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「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机,究竟有多少差距?( 二 )



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ASML公司垄断了全世界的高端光刻机,中国一直以来都想掌握光刻机技术,但是上海微电子经过17年的努力,才造出90纳米的光刻机,这已经十分不容易了,这可是0的突破。
那么,国产光刻机与荷兰ASML光刻机,究竟有多少差距?
光刻机包含13个分系统,3万个机械件,200多个传感器。有顶级的镜头和光源,没极致的机械精度,也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下,要知道一根头发直径有6万纳米。1毫米=1百万纳米,所以光刻机的精度要求几乎是普通机床的百万倍。目前ASML现在又要进击了,目标:1纳米!
「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机,究竟有多少差距?
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而反观国内,由于起步较晚,上海微电子装备公司在起步晚、技术薄弱的情况,还是研发生产了90纳米制程的光刻机。近期更是迎来了研发生产出22纳米的光刻机,代表国产光刻机的最高技术。虽然和ASML在技术上还有很大的差距,但是只要行动起来,有一群甘心研发的人,总会有赶超的那一天。你觉得呢?


稿源:(科技有点牛)

【】网址:/a/2020/0518/ahnews41065.html

标题:「光刻机」国产光刻机与荷兰ASML光刻机,究竟有多少差距?( 二 )


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