还要不断提高5纳米刻蚀应用的市场占有率。我们的前景会很好。

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我这解释一下，几个领先的逻辑芯片生产厂家声称的10纳米或7纳米器件，大家计算方法不一样，原来一个门，基本的三极管这样放，给它一直挤，大概到11纳米就不能挤了。

这样挤不下去了怎么办，立起来做，这个叫FinFET，这个新概念，是在胶州大学伯克利分校的教授胡正明提出来的。但实际上门的长度还是这么大，并没小，只是把它方向变了，再往下走怎么办？把它卷成一个卷，这个圈实际上又小了一点，所以做到14纳米以下，已经不是像过去意义上门电路多宽了。

这是他们最领先的技术，所以他们这样说，现在所谓5纳米、3纳米是一个虚拟的数字。没有一个真正的门是5纳米的。但是我们刻的东西确实有，最小的孔的底部，差不多你要说10纳米、7纳米底部就这么大，还有这个侧墙，已经做得很薄了，真正做到甚至三纳米都有。

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