中芯国际|中芯国际14nm工艺的规模量产达标，风雨中砥砺着的非凡意义( 二 ) |14nm|14nm工

最近已有报道：中芯国际FinFETN+1先进制程工艺的芯片流片成功了！中芯国际向7nm迈出坚实一步。所谓流片成功，意味着该制程工艺已达到有意义的良率，可以进行批量生产尝试了，且良率有望进一步提升。
但这里值得关注的是，所谓N+1制程，并不完全是网上传的第一代7nm 工艺。与14nm工艺相比， N+1性能提高了20％，功耗降低了57％，逻辑面积降低了63％， SOC面积降低了55％。大部分参数与通俗意义上的7nm相比，在实际功率和稳定性方面非常相似或接近，单就性能而言，这个n+1更像是台积电和三星的10nm节点，因为它相对14nm只提升了20%的性能。

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接下来，中芯国际将撞上7nm EUV工艺这面高墙，虽然n+1阶段可以暂时躲开ADML 的EUV光刻机，基于DUV 7nm技术，也可以将良率和可靠性做得很好，但最大的缺点就是贵。而且，英特尔在7nm节点上，为成本坚持DUV成熟工艺的教训历历在目。
摩尔定律放缓给追赶者缩小差距提供可能，但 EUV是我们暂时无法获得，但又无法跨越的技术。无论如何，中芯国际N+1工艺流片成功，这肯定是我们芯片史上的重要里程碑。
中芯国际是我们最可靠最先进的设备和材料验证平台
中芯国际在国内半导体产业链扮演非常重要的角色，随着中芯国际的不断发展和壮大，有望加速我们整体的上游半导体设备和材料供应链的国产化进程。

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国产化设备、材料在发展初期，在技术、成本上没有优势，如何取得产业链整体发展中最重要的流动性，如何取得优秀制程工艺下，比如14nm的验证和实践机会，只有与我们自己的先进晶圆生产线，抱团进步，共同发展，才是可靠的出路。
目前，半导体产业链国产替代进程一直稳步推进，或者处于国产化突破前夕。甚至，在国内半导体设备公司中，中微公司、北方华创、盛美股份、至纯科技等公司的刻蚀和清洗设备可应用于 14nm 及以下的先进制程。

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中芯国际近三年采购半导体材料价值量持续上升， 2019年达到47.2亿，其中硅片占比最大，为43% ，光刻胶及配套试剂、湿化学品、电子气体、抛光液、抛光垫、靶材占比分别为15%、14%、8%、9%、6%、5% 。我们的安集科技、沪硅产业、华特气体、金宏气体、上海新阳、江丰电子、鼎龙股仹等材料供应链企业，都是中芯国际的采购标的。
中芯国际先进制程大规模的量产，日益扩大的采购规模，将给国产设备和材料的崛起，提供更多的实践和流动机会。
正视中芯国际的设备和原料极度依赖进口的事实
晶圆厂需要多种半导体设备，包括最为人所知的光刻机。根据Gartner及各公司公告数据，各项半导体设备在竞争格局上，均被前1到4家公司所垄断，其中美厂应用材料、拉姆研究、科磊是半导体设备世界领域内的佼佼者。

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中芯国际在过去的两年大量采购了美方的设备，仅上半年，中芯国际先后投入6亿和5.43亿美元向美方的泛林半导体、应用材料采购半导体设备。而这些厂商，正是使福建晋华陷入绝境的美系甲方供应商。