纳米|3纳米！中国“芯”又突破一技术难关，光刻机同时取得新进展光刻机|芯片|it芯片

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芯片半导体是最近以来国人比较关心的领域，毕竟华为的例子就摆放在前，也给所有曾经不注重自主技术研发的厂商敲响了警钟，告诉了我们，我们在半导体领域仍然道阻且长，就算如此，这也是一条必须淌过的河，不越过去，国产的高科技电子产品生产线就永远没办法实现自主。
可这并不容易，国产半导体行业目前存在起步晚、核心技术少、高级人才缺失的问题，好不容易招来了梁孟松，却因为一些人情世故的“场外因素”又让他离开了中芯国际，直至梁孟松离职，目前我国离台积电的技术还差一代以上，怎么追，如何追，艰难的现状难免让人有些沮丧。
3纳米！中国“芯”又突破一技术难关，光刻机同时取得新进展。近日，复旦大学的周鹏教授为我们带来了好消息，目前，他们已经验证3到5纳米领域的重要技术——GAA晶体管技术，中国芯片迈出了一大步，让人们从迷雾中看到了希望的光。
当前世界上运用最多的两种两种晶体管技术为传统的FinFET晶体管技术和GAA晶体管技术，前者被广泛应用于20纳米到7纳米的芯片制造，而后者则突破是3纳米到5纳米芯片的重要门槛，在效率和稳定性上较传统的FinFET晶体管都有提高。
【纳米|3纳米！中国“芯”又突破一技术难关，光刻机同时取得新进展】世界上最顶尖的两家芯片代工制造厂——三星和台积电，目前三星已经计划将GAA晶体管技术应用在3纳米级芯片的量产上，而台积电稍微保守，目前使用的多为FinFET晶体管，但其同样对外宣布，下一代的2纳米将全面使用GAA晶体管技术，可见，在未来， GAA晶体管技术是高端芯片制造不可或缺的一环。
而据中芯国际对外发出的消息称，他们请来的蒋尚义老先生正在主持中芯国际与荷兰ASML公司进行谈判，谈判内容正是此前中芯国际向ASML订购的光刻机，如有最新进展，一定第一时间通知大家。中国芯片的新气象正在到来，如果光刻机能在此时到达中国，那中国芯片一定能实现从未有过的飞越。各位对此有什么看法，欢迎在评论区发表您的留言。