光刻机|乘风破浪的中国芯！美媒：2021年，中国顶级光刻机正式投入使用芯片|中国芯|半导体业|it芯片

文章图片

文章图片

现代科技已经非常发达，科技产品在生活中占据的比重也是越来越大，科技的不断进步，令我们的生活变得越来越便捷。随着科技的发展，我们进入互联网时代，尤其是我们生活当中必不可少的智能手机，有时，没有手机让人就感觉是失去了灵魂一般。
【光刻机|乘风破浪的中国芯！美媒：2021年，中国顶级光刻机正式投入使用】
智能产品最重要的就是芯片，芯片是一个智能产品的灵魂所在，我们国家的半导体行业实力算是比较落后了，所以才会被美国逮到机会，给予我们半导体行业一次重击，美国芯片禁令的存在，直接暴露了我们国家光刻机和芯片技术的不足，并因此损失惨重。
乘风破浪的中国芯！美国媒体：2021年，中国顶级光刻机正式投入使用！不过我们国家也是迅速反映了过来，政府也是宣布拿出1.4万亿投入到了半导体行业当中，为的就是振兴我国的半导体行业，还真别说，在中科院的出面整合下，我国的半导体行业迅速就有了突破。
其实说句不好听的话，我们国家很多的企业都是犹如跗骨之蛆，本身没有很强的实力，全靠着补贴赖活着，或者是完全依赖别人的技术，安安心心赚昧良心的钱，芯片禁令的出现令这样的企业都给饿死了也好，资源重新整合之后也能够培养出更强大的企业。
在芯片禁令下，华为顶住了压力并研发出了屏幕芯片和云手机。中芯国际则是研发出了新一代的N+1制程工艺的光刻机技术，这相当于台积电的7nm工艺，尽管距离荷兰ASML的5nm工艺还有着一些差距，但是这个差距已经小了很多了。
更重要的是，中芯国际的光刻机技术是纯国产技术，哪怕如今技不如人，但是只要我们自己掌握了核心技术，那么就不担心我们会追不上荷兰的技术，而且中芯国际也是预计将会在2021年开始投入使用这项技术，届时，我们国家的7nm芯片就再也不用通过进口了。