光刻机发展滞后没关系，我国正在研发冰刻机，这次能弯道超车吗？光刻机发展滞后没关系

光刻机发展滞后没关系，我国正在研发冰刻机，这次能弯道超车吗？
光刻机现在已经是很多老百姓都知道的芯片制造流水线之中的重要机器了。
事实上不同领域针对这一现象都在进行自己的努力。就比如说，华为现在自己在上海落地建厂，进行芯片制造生产的初级尝试，这一举措或得到国家有关部门的高度认可；再比如说咱们的量子方面的专家也在加快研发所谓的量子芯片，力求在芯片领域让中国走在前列；当然也有些科学家正在努力的研发一种全新的芯片刻印材料，它叫做冰刻。
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但是我们需要知道的，冰刻依旧离不开光源，所以在光源这个问题上我们暂时还绕不过去。只不过如果有了更好的研究方案，那么我们国家就能凭借这种核心技术的所有权成为光刻领域重要的技术输出方和供应商，到时候所谓的封锁自然就会松动甚至瓦解。那么今天小编就来给你说一说，冰刻究竟是怎么回事吧，它跟光刻机有什么区别呢？
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【光刻机发展滞后没关系，我国正在研发冰刻机，这次能弯道超车吗？】发明冰刻概念和机器的团队是咱们国家西湖大学的一直科研团队，仇旻教授团队。他们所做的事情就是让光刻技术在材料层面上进行革新，从而让光刻更加精细准确干净无残留。
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现在光刻技术简单的说就是用光的特性将一个微小的模型直接投射在涂上了一层薄薄的光刻胶的硅片上。虽然技术上讲已经比较成熟，但是在实际运用的时候确实还是会有一定的几率出现一个问题：光刻胶在清洗过程之中出现问题，甚至难以清洗掉。而这个问题一直都没有什么好的解决方案，直到冰的出现。
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仇旻教授团队研究的就是冰在替代光刻胶上的可能性和优势。事实上他们已经成功的制造出了第一代的冰刻机器，而第二代的升级版本也已经在紧锣密鼓的进行。具体工作原理其实简单的说就是，将原本覆盖光刻胶的位置用冰层代替。这个冰可不是咱们看见的普通的冰，它是在真空-130摄氏度的环境之中，将水蒸气变成一层轻若无物光滑无比的冰层覆盖在基片上。
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当用于雕刻的光源出现的时候，微调的部分冰就会消失，从而不会让基片上留下任何难以清洗的痕迹。这说起来好像很简单，但是想要真正实现这个技术还需要一段不确定的时间进行研究和推进。至少从现在来看，仇旻教授的团队的进展还是比较顺利的。只是科研和量产之间永远都是一道鸿沟，能不能实现还是需要等待的。
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至少这是一个很好的信号，我们可以从很多方面在芯片领域进行研究和发展，通过累积自己手中的科技硬实力，来打破束缚的枷锁。光刻机我们目前确实没办法跟上国际的发展，但是冰刻机真的有机会成为我国芯片领域的突破口，对此您怎么看？欢迎在评论区留言分享，别忘记点赞加关注，每天分享世界新鲜事儿！
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