华为可以长舒一口气了，新一代国产光刻机即将交付文|考拉科技馆排版|考拉科技馆

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华为可以长舒一口气了，新一代国产光刻机即将交付！
都知道，在芯片的生产过程中，光刻机是不可或缺的设备。但遗憾的是，在光刻机领域，我国不仅没有占据优势，反而还处于劣势。目前，国内能独立制造的光刻机为90nm光刻机，整体水准比之国际光刻机巨头ASML所生产的EUV光刻机要差好几个档次。
当然了，荷兰ASML能成为光刻机市场的巨擘，除了其本身确实拥有不俗的实力外，还离不开西方一些国家的支持。像EUV光刻机所用到的EUV光源是来自美国，轴承是来自瑞典、光学设备则是来自日本。正是因为有这么多国家的支持， ASML才能垄断全球80%以上的光刻机市场。
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而我国呢？受1966年美日俄等40个国家联合签署的《瓦森纳协议》影响，每当我们要跟这40个签署《瓦森纳协议》中的某一个国家合作时，美国都会站出来进行干涉，阻止合作达成。如协议中的国家捷克曾计划向我们出口“无源雷达设备” ，但在交易环节，却被美国搅黄了。
类似的例子在过去的数十年间还有不少，可以这么说，如果没有《瓦森纳协议》的存在，那我国在光刻机领域，绝对不会落后世界太多。
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但可惜，现实没有如果。
当然，我们也没必要太过沮丧，既然西方国家不愿意跟我们分享技术，那我们就自己研发。曾经在通讯、铁路等领域，西方国家也对我们进行技术封锁，可最后，我们不仅没有因为被封锁而没落，反而还对西方国家实现了赶超。
就拿通讯来说，在华为等优秀的中国通讯企业的努力下，我们已经成功在通讯领域弯道超车西方国家。美国封锁到最后，不仅啥也没捞着，反而还在5G技术上落后于我们，简直是滑天下之大稽。
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光刻机确实很难造，但这并不代表我们就造不出来。无数次的先例已经证明，只要中国愿意耗费精力去研究，那就一定能取得突破。
而事实也正是如此，多家国内媒体报道，新一代国产光刻机即将于明年正式交付使用，可用来生产28nm芯片，系上海微电子公司生产。虽然只能用来生产28nm芯片，但这台光刻机已经足以用来生产绝大多数芯片了。而且更为关键的是，这台28nm国产光刻机完全做到了绕开美国技术和设备，这是一次历史性的突破。
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“华为可以长舒一口气了”！一些半导体领域的学者表示：28nm光刻机虽然谈不上特别先进，但已经足以抵消美国禁令给华为带来的大部分影响。
诚然， 28nm用来生产麒麟手机芯片很勉强，但如果是用来生产华为自研的通讯及基站芯片，那还是绰绰有余的。
这台28nm光刻机的存在，将能在最大程度上保障华为主营的通讯业务不受美国禁令影响，华为可以长舒一口气了。
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从90nm跨越至28nm光刻机，这是中国光刻机技术的一次巨大飞跃了，虽然仍跟西方国家有一定的差距，但也足以自傲。
此外，从上海微电子公布的计划来看，到2023年，该司将生产出可以满足20nm芯片工艺节点的光刻机，届时中国在芯片制造领域将更进一步。
【华为可以长舒一口气了，新一代国产光刻机即将交付】正视差距才能缩小差距。现阶段，中国自产的光刻机确实比不上ASML的EUV光刻机，但在未来，谁又敢轻易断言中国无法实现弯道超车呢？
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