全球|2020年全球半导体清洗设备行业市场现状及发展前景分析市场规模或将突破30亿美元发展前景|设备|清洗|2020年|全球

1、清洗步骤贯穿半导体全产业链
【 全球|2020年全球半导体清洗设备行业市场现状及发展前景分析市场规模或将突破30亿美元】半导体清洗设备直接影响集成电路的成品率，是贯穿半导体产业链的重要环节，在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺中均为必要环节，约占所有芯片制造工序步骤30%以上，且随着节点的推进，清洗工序的数量和重要性会继续提升，清洗设备的需求量也将相应增加。

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2、湿法清洗占据市场90%份额
半导体清洗设备针对不同的工艺需求，对晶圆表面进行无损伤清洗以去除半导体制造过程中的颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质。按照清洗原理来分，清洗工艺可分为干法清洗和湿法清洗。在实际生产过程中一般将湿法和干法两种方法结合使用，目前90%以上的清洗步骤以湿法工艺为主。

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在湿法清洗工艺路线下，目前主流的清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备和批式旋转喷淋清洗设备等，其中以单片清洗设备为主流。

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3、全球半导体清洗设备行业马太效应明显
目前，全球半导体清洗设备市场主要由Screen(日本迪恩士)、TEL(日本东京电子)、Lam Research(美国拉姆研究)和SEMES(韩国)和拉姆研究等日美韩企业瓜分。根据Gartner数据显示，2018年全球排名前四的企业合计占据约98%的市场份额，行业马太效应显著，市场高度集中;其中日本厂商迪恩士以市占率45.1%处于绝对领先地位，而国内清洗设备龙头盛美半导体市占率仅为2.3%。

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4、全球市场规模至2024年有望达到31.93亿美元
近年来，清洁设备的行业规模呈现波动变化态势。根据Gartner统计数据，2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.17亿美元，2019年和2020年受全球半导体行业景气度下行的影响，有所下降，分别为30.49亿美元和25.39亿美元，预计2021年随着全球半导体行业复苏，全球半导体清洗设备市场将呈逐年增长的趋势，2024年预计全球半导体清洗设备行业将达到31.93亿美元。

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更多数据及分析请参考于前瞻产业研究院《中国半导体设备行业市场需求前景与投资规划分析报告》，同时前瞻产业研究院还提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。

全球|2020年全球半导体清洗设备行业市场现状及发展前景分析 市场规模或将突破30亿美元

全球|2020年全球半导体清洗设备行业市场现状及发展前景分析市场规模或将突破30亿美元