美国担心的事发生！又一国光刻机技术突破，华为或从此改写命运来自TechWeb方面的消息

来自TechWeb方面的消息，韩国知识产权局（KIPO）公布的统计数据显示，自2011年开始至今，过去10年韩国EUV光刻技术专利在2014年达到88项的顶峰， 2018年达到55项， 2019年则为50项。
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【美国担心的事发生！又一国光刻机技术突破，华为或从此改写命运】毫无疑问，经过这十年，如今韩国的EUV技术已取得了重大的突破性进展，预示着韩国未来非常有可能突破其他国家对其芯片制造的限制，同时从某种角度上来讲，美国担心的事情发生了。
美国一直以来依赖美国的技术霸权，通过荷兰光刻机的绝对技术优势，来限制中国发展芯片，而现在韩国在这方面的技术突破，瓦解了荷兰光刻机的绝对优势。
这意味着之后其他国家或企业，包括华为公司在内就有可能抛开荷兰光刻机，不使用美国技术成为可能；同时也意味着华为可能因此彻底改写命运，不再担心芯片卡脖子。
众所周知，荷兰在光刻技术这方面最有优势，他们长期以来一直封锁这项技术，使得其他国家的发展非常困难。
过去，这项技术牢牢掌握在荷兰的台积电和荷兰的ASML手中。如果你想生产一些特殊的芯片，其他公司必须依靠这两家公司。不仅获取芯片的价格很高，你还得害怕美国的封锁。
因此，全世界许多电子企业都想要突破这一技术，从而突破美国的技术限制。如今，韩国终于在这项技术上有了重大突破。
自2011年开始，韩国就一直致力于光刻机领域的专利技术的研发，截止到现在其专利总数保守估计已达193项。
要知道，为此，韩国的三星电子等企业可是投入了大量的人力和物力来研发这项技术，以保证他们的技术能够尽快实现突破。
其中，三星在这项技术上的成就最大，他们苦研开发十年，力求能实现更大的突破和取得技术的领先。
据悉，三星近日正式发布了Exynos 1080手机芯片，这是韩国首款基于5纳米工艺制程的芯片。
显然，如今，三星已经将EUV光刻技术成功地应用到手机上的处理器上，这充分证明了他们比其他国家在更新这项技术的速度上更快。
对于韩国此次光刻技术的重大突破，英国方面有人表示担忧，害怕在未来，一旦三星等韩国企业与华为连成一线，他们将面临巨大压力。
另外，不仅仅是三星，华为早就开始了光刻技术的布局。
华为希望未来芯片的制造和生产能完全掌握在自己手中，不希望依赖美国的一些企业，继续在芯片上受到美国的限制。
再者，美国并没有停止打压华为，华为必须做好相应的准备，尤其是在光刻技术的自主研发这方面。