中科院突破5nm激光光刻技术，激光光刻机横空出世？荷兰再见？阅读本文前

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中科院姑苏纳米技巧与纳米仿生研究所张子旸与国度纳米核心刘前独特在Nano Letters上宣布了一篇研究论文纳米激光光刻是其研究的一项重要内容。在芯片性能方面，一直是中国的软肋，美国也频频用它来堵住中国高科技企业的脖子。新型5nm高精度激光光刻技术的成功研发，填补了中国这一领域的空白，值得庆贺。荷兰的ASML光刻机与5nm高精度激光光刻机的关系，很多人自然会产生遐想。他们之间到底有什么异同？
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这个进展很快就会被各大媒体热炒，不过还是那句话，目前是实验室中取得的技术突破，并没有达到量产的程度，而且原文并没有特意强调是用来生产半导体芯片的，甚至一个字都没提到是光刻机，它更多地是用于快速制备纳米狭缝电极阵列结构。 5nm光刻机和5nm激光光刻技术是两回事。这让很多人误以为我们很快就能研制出5nm光刻机
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激光直接写入作为一种低成本的光刻技术，可以在非真空条件下用连续或脉冲激光实现快速无掩模写入，大大降低了器件制造成本，是一种极具竞争力的加工技术。然而长期以来，由于衍射极限和邻近效应的限制，在纳米尺度上实现超高精度加工是困难的。他们所说的只是微纳机床领域的一个进步。人们很容易把5nm的价值与光刻联系起来，也就是说，中科院突破了5nm光刻机。再加上一些媒体的传播，很可能会出现一系列的信息错误。会让很多朋友误以为中国的版画有了质的飞跃和进步。
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不过，说到芯片，我们来谈谈华为。华为芯片自主研发之路依然艰难。虽然华为有独立开发芯片的能力，但台积电一直在生产高端芯片。这一次，美国要限制华为，最重要的是台积电。高端芯片制造商只有这么多。如果台积电失利，三星不会停止为华为的OEM生产（中芯国际可能会与华为签约，但它只会有能力签约中低端芯片）。在极端情况下，华为可能自愿放弃高端芯片的生产，可能只从高通、三星和联发科购买芯片。至于华为能否完全放弃芯片开发？小组认为不可能实现这个目标。至少中低端芯片可以由中芯国际代工。
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【中科院突破5nm激光光刻技术，激光光刻机横空出世？荷兰再见？】但我们中国已经迈出了这一步，我相信我们很快就能取得重大突破。再者，自己的路需要自己控制。 28nm到5nm之间有很多瓶颈，但我们中国的研究人员决不会低头。目前，国产光刻机前景广阔，在其他领域也在向前发展。所以，如果我们想发展先进的光刻机，我们在中国还是有希望的。
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