【ASML公布制造1nm的最强光刻机】11月中旬 ， 与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节 。 而就目前来说 ， ASML对于3、2、1nm都做了非常清晰的规划 ， 并且也公布了1nm的很多细节 ， 从光刻机的体积来看 ， 确实小了很多 。
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其实目前三星、台积电都已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备 ， ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计（即NXE：5000系列） ， 预计在2022年实现商业化 ， 也就是说1nm的时代已经不远了 。
那么 ， 1nm以后 ， 行业的天花板又在哪？
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