华为鸿蒙系统|网传哈工大研发EUV光刻机，与ASML技术一致，预计2年推出华为鸿蒙系统

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如果说在芯片领域，什么最牵动我们的心，那一定是光刻机。因为光刻机是半导体制造中最重要的设备，但我们的技术却落后太远，还停留在90nm ， ASML已进入了5nm ，完全不是一个级别的。
更关键的是，先进的EUV光刻机，是进入7nm工艺必须的设备，我们根本买不到，自己又研发不出来，导致先进的芯片制造技术，我们实现不了，缺光刻机。
那么怎么办？近日网传哈工大，哈工大正在研发EUV光刻机，而重要的光源部分，采用的是DPP-EUV光源，同时中科院长春光机正与哈工大合作，基于DPP-EUV光源研EUV曝光机，预计2年内可以推出。
至于EUV光刻机中所需要的透镜及曝光系统，长春光机早有突破，双方的合作顺理成章，且非常具有实操性。
当然，目前不管是哈工大，还是长春光机并没有正面回应此事，但哈工大在精密加工，超精密测量领域，早已有了几十年的积累，所以看起来可信度还是非常高的。
事实上在EUV光刻机领域，有两种光源，一种是DPP-EUV也就是通过放电激发等离子体产生极紫外线光源，一种是LPP ，原理是利用高功率激光加热负载(Xe或Sn)形成等离子体，等离子体辐射出紫外线。
目前ASML的光刻机采用的是DPP-EUV技术，而哈工大据称这两种技术早在10多年前就有研究，而现在主要研究DPP-EUV技术，因为这种技术能量转换高，造价相比较低，复相对而言没那么复杂。
【华为鸿蒙系统|网传哈工大研发EUV光刻机，与ASML技术一致，预计2年推出】不过，现在还只是传闻，真真假假，假假真真，谁也不清楚，但如果真的是这样的话，有了这些一流的科研机构、大学参与，相比于纯粹的企业研发，可行性还是会更高的，同时进度也会更快的，你觉得呢？所以就让我们拭目以待吧。