光刻机|中国拿下3台ASML光刻机，不生产芯片，只用于研发关键材料光刻胶|芯片|asml|it芯片|重器

文章图片

文章图片

文章图片

最近中国又拿下了三台光刻机，并且还是荷兰ASML的，今天我们就来聊一聊这个事儿。那我国有一家公司叫上海新阳公司在二零二零年的某次业绩说明会上表：示花费了约一亿元购买了三台光刻机，光刻机的型号为ASML1400 。那么随后第一台光刻机在二零二零年的十二月份就已经到位，并且安装和调试了。
但是受到各种复杂因素的影响，上海新阳虽然跟光科机的供应商、合作方沟通协调设备的运输和安装等细节，但是还是没能按照计划完成全部的部署。那么进入到二零二一年，在一月五日的时候，上海新阳又发布公告称此前购买的光刻机预计在三月底进入合作方的现场，也就是说未来的一个月左右的时间就可以全部到位了。其实这一款荷兰ASML1400光刻机并不怎么先进，工艺制成只有五十五纳米，并且还是二手。
虽然是二手机器，但也具有很大的现实意义，因为这三台光合机并不是用来制造芯片的，而是用来进行光刻胶验证的。我们都知道光刻胶是芯片制造过程当中非常重要的一个材料，其品质的好坏也决定了光刻制成的成败，所以技术难度还是非常高的。目前全球的光刻胶市场主要被日、美两国的企业占据着，全球前五大厂商占据了光刻胶市场百分之八十七的份额。
这些年高端的光刻胶需求量越发旺盛， KrF和ArF光刻胶已经占全球光刻胶市场的百分之六十三。高端光刻胶一直都是日本企业垄断，因为我国在这个领域起步比较晚，所以处于落后的局面。据中国产业信息网公布的数据显示，我国在低端的PCB光刻胶的产值占比高达百分之九十四点四，但是高端光合效的产值却只有百分之一点六。
所以为了打破外国企业对光刻胶的垄断地位，我国呢也将ArF光刻胶列入了国家02专项的一个重点工科项目。二零二零年的十二月十七日，南大光电宣布其自主研发的ArF光刻胶已经成功地通过了客户的使用认证，可以用于九十纳米到七纳米技术节点的芯片生产。在此之前的十二月十四日，上海新阳宣布公司ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶带研究阶段已经完成，预计二零二二年可以实现KrF后门光刻胶的量产，二零二三年开始ArF干法光刻胶的量产。
那么国产光刻胶打破垄断已经指日可待，其实我国买二手的光刻机用于研究其实已经不是第一次了，例如二零二零年的九月二十九日，晶瑞半导体发布公告称，花费了七千五百万元从SK海力士购买了一台二手的阿斯迈的光刻机，这台光刻机仅有三十六点五纳米的制程，但是购买的目的也很明确，主要就是用于高端光刻胶的研发。所以如果你特别关心中国半导体的话，就会发现在半导体产业链里边的各个重要环节，我们都在不断地取得突破。
从接受材料到光刻机的关键设备，再到生产工艺，都持续获得了重大的进展，胜利就在前方不远处。当然这一切跟企业的投入、科研人员的辛苦付出、国家的大力支持分不开。而作为普通老百姓的我们需要理解并且支持他们，而不是一味地说风凉话。我们中国是没有EUV光刻机，暂时也造不出来这么先进的光刻机，那又怎么样？现在造不出来，不一定以后就造不出来，遇到困难应该解决困难，而不是一味的贬低自己，推崇他人。
【光刻机|中国拿下3台ASML光刻机，不生产芯片，只用于研发关键材料】总之不妄自菲薄，也不盲目自大，脚踏实地的前行就好。未来世界半导体的格局将会因为中国而改变，世界半导体的重心也将会移到中国。