光刻机|ASML正式就EUV光刻机改口表态！外媒：这是看清事实了极紫外光刻|asml

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就目前而言， EUV光刻机仍是生产制造7nm及以下芯片的最佳设备和必要设备。
虽然台积电表态， DUV光刻机也能够量产7nm、5nm芯片，但存在成本高、工艺复杂等问题，而铠侠等推出的NIL工艺，到2025年才能够用于量产5nm芯片。
所以， ASML一直都想出货更多EUV光刻机，不单单是因为其需求大，关键是其售价高， ASML可以获得更多营收和利润，并占领更多市场。

但是， ASML的EUV光刻机被制造出来后，就无法自由出货，国内厂商早在2018年就全款订购了一台，至今都没有到货。
对于EUV光刻机ASML也在想办法自由出货，但实际效果并不明显，这是因为ASML并不着急。
一方面是因为EUV光刻机目前仍处于供不应求阶段，另外一方面是ASML胸有成竹，明确表示给国内厂商图纸，其也造不出来EUV光刻机，毕竟是集合多家供应商的核心技术。

但没有想到的是，进入2022年， ASML却突然正式就EUV光刻机改口表态了。
据悉， ASML方面明确表示，国内厂商是无法生产制造出来先进的EUV光刻机，但这也不是绝对性的。
也就是说， ASML对国内厂商的认知从“不可能造出先进的光刻机“变成了“可能会造出来先进的光刻机” 。
而ASML的态度之所以突然大变，目的是想借此进一步加速实现EUV光刻机自由出货，也是因为国内厂商在光刻机等技术方面实现了多个突破。

例如，国内厂商已经突破了光源技术，成为全球三大能够生产制造193纳米ArF准分子激光器企业，而ASML的DUV光刻机采用就是这类光源技术。
另外，国内的华卓精科已经掌握了双工作台技术，而长春光机所正在镜片方面不断突破，目的就是研发制造出来像卡尔蔡司一样的镜头。
还有一点就是，华为旗下的哈勃投资已经正式进入私募领域内，这意味着华为在芯片半导体领域内火力全开。

因为华为不可能实现面面俱到，但华为可以通过投资等方式助力国内芯片产业链全面发展突破，从而实现整个产业链的全面突围。
对于ASML突然就EUV光刻机改口表态，外媒也表示ASML这是看清事实了。
因为ASML不尽快实现EUV光刻机自由出货，一旦国内厂商实现突破， ASML想卖出去更多EUV光刻机就难了。
更何况， EUV光刻机虽然好，但不是生产制造7nm以下芯片的唯一设备， NIL工艺推出后， EUV光刻机的销量自然会进一步受到影响，毕竟，该工艺有成本低等优势。

当然， ASML在2021年底就认识到，必须要加速实现EUV光刻机出货，否则， ASML可能就无法实现2025年营收高达300亿欧元的目标。
为了尽快让EUV光刻机自由出货， ASML一边加速提升EUV光刻机的产能，预计今明两年生产制造115台EUV光刻机，随后会进一步扩产，到2025年实现60%的安装使用率。
另外， ASML也在加速推出全新一代EUV光刻机，其中NA值为0.55的新一代EUV光刻机已经开始交付，另外一台相同NA值的EUV光刻机也获得5台订单。

最主要的是， ASML同时还在研发全新的high-NA EUV光刻机，预计在2025年交付出货。
也就是说， ASML加速提升产能，并连接推出新款EUV光刻机，目的也是为了加快EUV光刻机自由出货。
【光刻机|ASML正式就EUV光刻机改口表态！外媒：这是看清事实了】所以在ASML正式就EUV光刻机改口表态后，外媒就表示自由出货会进一步加快。对此，你们怎么看，欢迎留言、点赞、分享。