英特尔|英特尔订购全球第一台2纳米EUV设备 asml|纳米

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ASML与英特尔于今日（1月19日）宣布，英特尔已向ASML下订业界首台TWINSCAN EXE:5200系统的订单；这是款具备High-NA的极紫外光（EUV）大量生产系统，每小时具备200片以上晶圆产能，英特尔预计2025年进入生产阶段。

TWINSCAN EXE:5200系统的订单主要应用在2纳米制程及以下技术。 ASML称这是2022年初收到下一代TWINSCAN EXE:5200的第一笔订单，这标志着ASML在导入0.55数值孔径High-NA EUV技术的道路上又迈出了一步。据了解，台积电也会立即跟进下订单。

ASML总裁兼技术长说：“英特尔的远见和对ASML High-NA EUV的早期承诺，为其不断追求摩尔定律icon的绝佳左证。相较于目前的EUV系统，我们持续创新拓展EUV路线图，进一步降低复杂性、成本、周期时间和所需能量，提供驱动芯片产业下个10年所需要的良好经济规模延展性。 ”

【英特尔|英特尔订购全球第一台2纳米EUV设备】
英特尔则说，公司于2021年7月Accelarated活动中宣布，其部署首款High-NA技术的计划，藉以确立晶体管创新路线图发展。英特尔早在2018年即是之前TWINSCAN EXE:5000系统的首位买家，通过今日所宣布的新订购案，其合作关系将随着英特尔于2025年开始以高数值孔径EUV进行生产制造而延续下去。

英特尔的执行副总裁暨技术开发事业部总经理Ann Kelleher通过新闻稿说，公司重点就是保持半导体光刻技术的领先地位， 2021年就持续不断地打造公司的EUV专业知识和能力。通过与ASML的密切合作，英特尔将汲取High-NA EUV的高端优势，作为延续摩尔定律的其中一个方式。

两家公司均称，平台为EUV技术的演化步骤，其包含新颖的光学设计与大幅提升速度的光罩与晶圆阶段。 TWINSCAN EXE:5000 和EXE:5200系统与之前EUV机器所具备的0.33数值孔径镜片相比，提供精确度提升的0.55数值孔径，为更小的晶体管特征提供更高的分辨率图案化。系统所具备的数值孔径结合其使用波长，决定了最小能够印制的特征尺寸。