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这是美国加州伯克利大学微电子制造所的组会:一群年轻人正在热烈的讨论足以影响未来30年的技术--FinFET 。 1996年 , 美国DARPA宣布了一项新的研发计划:下一代先进微电子(Advanced Microelectronics , AME) , 旨在开发25nm CMOS工艺 。
伯克利大学微电子制造所获得AME项目为期4年的资助 , 1999年 , 正是这张“DARPA Device Group Meeting”照片里的年轻人 , 发表了全新的FinFET晶体管结构 。 大约12年之后 , 美国英特尔宣布采纳FinFET技术量产22纳米芯片 。
如今 , 我们手中的手机芯片 , 几乎都是采用这项技术 , 我最近常常浏览DARPA的主页 , 他们几乎参与了所有最前沿的科技创新领域 , 并且获得了巨大的产业化成就 。 DARPA成功的秘密在哪里?我听说英国也在学习DARPA的模式 , 然而似乎并不是很成功 。
【微电子|美国伯克利大学微电子制造所:正在热烈的讨论足以影响未来30年的技术】
看着这张照片里 , 一张张华人的面孔 , 照片里的年轻人 , 唯一一位女生 , 叫Xuejue Huang , 毕业于华中科技大学 。 她领导了FinFET原型工艺的设计 , 也是1999年的论文第一作者 。 这篇短短5页纸的会议论文--Sub 50-nm FinFET: PMOS , 影响了世界30年 , 以及我们这个时代 。 而1999年 , 似乎是一个手机还没有普及的年代 , 写在2022年的新年 。
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