PVD涂层的基本方法之溅镀（溅射镀膜）（二）：PVD涂层的基本方法之溅镀（

原标题：PVD涂层的基本方法之溅镀（溅射镀膜）（二）
之前介绍了PVD涂层的基本方法有：
真空蒸镀、溅镀（溅射镀膜）、离子镀
PVD技术是目前国际上科技含量较高且被广泛应用的镀膜技术，它具有镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点，是表面处理工程领域较佳的选择。
PVD本身镀膜过程是高温状态下，等离子场下的辉光反应，亦是一个高净化处理过程，镀层的主要原材料是以钛金属为主，钛是金属中最与人体皮肤具亲和性能的，使得PVD涂层产品本身具备纯净的环保性能。
溅镀（溅射镀膜）：是指高速带电粒子（电子、离子、中性粒子）轰击固体表面并使固体原子（或分子）从表面发射的现象。溅射涂层是在电场作用下，由辉光放电产生的正离子对阴极靶表面进行高速轰击，使原子或分子溅射出来，然后在基体表面沉积原子或者分子形成薄膜。
一百多年前Grove等人发现了气体辉光放电产生的等离子体可用来溅射阴极靶材，随后人们根据这一原理发明了直流双极溅射技术，并将其应用于涂层制备中。
溅射镀膜可用于制备各种薄膜，也可用于制备各种金属薄膜和氧化物薄膜等。
溅射镀膜与其它镀膜方法相比的优点有：
1、任何材料都可以进行溅射，特别是难以制备的高熔点、低蒸气压的薄膜；
2、由于基体在溅射前可以进行离子清洗，因此溅射原子的能量较高，基体与溅射原子之间会发生熔融扩散，使溅射沉积的涂层具有良好的附着性，与基体结合，薄膜密度高；
3、溅射过程中，通过控制靶电源和放电电流可以精确控制薄膜厚度，具有良好的重复性。
但是同时，溅射镀膜还存在设备复杂、高压设备昂贵等缺点，射频电源的价格一般比较贵，射频电源的功率不能很大，而射频溅射装置的使用应注意辐射防护。

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【PVD涂层的基本方法之溅镀（溅射镀膜）（二）】下期继续介绍PVD涂层的基本方法的其它形式，欢迎您进行评论共同探讨。