3nm技术刚传来消息，美就迅速行动，中芯恐无缘EUV光刻机？作为科技行业的根本核心

作为科技行业的根本核心，芯片一直以来都是困扰我国发展的难题。并不是我国不重视芯片技术，而是因为之前“汉芯”事件的出现让我国在芯片投资方面畏手畏脚，不敢甩开膀子大干一场。而如今华为遭遇的情况则恰恰是没有芯片核心技术的严重后果，所以自从近几年开始，我国也是重新开始注重芯片行业的未来投资。
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不得不说，美国接二连三对华为的阻碍其实就是我国芯片行业的一个缩影，如果说国内其他企业也遭遇华为这样的处境，那么后果可想而知。要知道我国是一个芯片需求大国，如果没有产品和技术的供应，将会不堪设想。也正是因为如此，不管是国内企业还是国内的消费者，对芯片一事都开始愈发重视。
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当然，我国能造出来芯片吗？能，但并不是顶尖的技术，目前我国中芯能够量产的只有14nm及其以上的技术产品，而N+1技术刚获得突破不久，只是进行了小规模的试产，还暂未涉及到大规模量产。说到中芯的N+1技术简单来说其实也就是类似于台积电7nm规格的技术产品。
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但是目前台积电最先进的是5nm工艺，甚至3nm工艺也已经有了进展。而中芯想要制造比N+1更高端技术的产品，则需要用到EUV光刻机，所以光刻机设备也是阻碍我们国产芯片发展的一个障碍。只有在这方面有所突破，国产芯片的问题自然也就迎刃而解，顺利发展。
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国产3nm芯片传来消息，中芯也对光刻机表态而在这种情况之下，一则消息传来，根据相关报道表示，中芯在芯片制造方面有了突破，已经攻克了目前最先进的芯片技术，也就是3nm工艺技术。也就是说，只要中芯能够从ASML的手中拿到EUV光刻机设备，那么就能够立刻制造出最先进的3nm芯片。如果该消息属实，那么无疑是给了国产芯片制造业注入一针“强心剂” 。
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而同时中芯国际的新任副董事蒋尚义也决定就EUV光刻机一事与荷兰的ASML进行相关的谈判，而谈判的主要目的就是为了能够让中芯拿到关键的EUV光刻机设备。如果能够成功拿下，那么无疑是国产芯片制造业的一个转折点。
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不过这个消息的出现无疑是美国最不想看到的，毕竟刚刚限制华为在芯片上的发展，中芯就出现了这种技术上的转折和突破，想必这一点是美国难以预料到的一点。而同时要注意的是，即便是中芯能够拿到ASML提供的EUV光刻机，因为美国在芯片技术上的限制，目前也依旧无法解决华为的难题。
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美国迅速出手， EUV光刻机恐成泡影【3nm技术刚传来消息，美就迅速行动，中芯恐无缘EUV光刻机？】但即便如此， 12月18日传来消息，美国突然将中芯列入了实体清单当中，而目的就是为了限制中芯能够获取美国先进技术的来源。这个消息的出现无疑是意味着中芯进口EUV光刻机的想法再次破灭。
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可以看出，国产芯片发展的道路充满了艰难险阻，如果这种阻碍一直持续下去，无疑是不利于国产芯片的发展速度。而我们现在能做的，只能是靠着自己的力量去完成光刻机的研发和生产，而这个时间可能并不会短。