ASML突然宣布：完成1nm光刻机设计！国产光刻机追得上吗？在电子产品行业中

在电子产品行业中，有一句话叫做“买新不买旧” ，为什么？因为现在电子产品的更新换代实在是太快了！以手机为例，去年的旗舰手机到今年性能就已大幅落后，而前年的旗舰手机则走到了被市场淘汰的边缘。
而电子产品更新换代如此之快的原因，就在于芯片升级的速度非常快！所以在开始本期的正文之前，需要先和大家谈一谈有趣而残酷的“摩尔定律” 。
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“摩尔定律”被科学界尊为【计算机第一定律】，大概指的就是：集成电路上可以容纳的晶体管数目在大约每经过24个月便会增加一倍。换言之，处理器的性能每隔两年翻一倍。
【ASML突然宣布：完成1nm光刻机设计！国产光刻机追得上吗？】这也就是为什么，去年的手机今年就落后了，前年的手机今年就要淘汰。
但这个定律不仅注定了电子产品更新的速度很快，也同样指出一个残酷的事实：西方半导体技术发展飞快，我们可能真的难以追赶！
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据报道，就在我们全力追赶突破14nm光刻机的时候， ASML却突然宣布：已完成1nm光刻机设计。
据介绍， ASML已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，虽然商业化计划在2022年左右。但ASML的进度却再一次惊讶了全球科技界，他们将“摩尔定律”发展到极致，同时也让其竞争对手“感到绝望” 。
ASML完成1nm光刻机设计，也正意味着他们即将再次突破自己达到的光刻机天花板。
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但与此同时，咱们却还在为了14nm光刻机而奋斗，如果要形象的比喻我们和ASML的差距，我想他们应该是25岁的青壮年，但咱们还是蹒跚学步的小孩童。
而根据摩尔定律来看，就算咱们在两年后突破到14nm、7nm ，可人家已经有了3nm甚至是1nm光刻机。那再过两年、四年之后呢？
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客观来讲，咱们如果要实现追赶，就必须要突破“摩尔定律”的速度！我们要做的不仅仅是发展光刻机，要做到的其实是快速发展光刻机！
这虽然很难，可咱们的科研团队又何尝不是一直在创造奇迹？从两弹一星到北斗导航，西方认为的各种“不可能”都被我们变成了可能！那下一个10年的“中国速度”会出现在光刻机领域吗？