力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难大道无常。对于华为下半年将要发布的旗

大道无常。对于华为下半年将要发布的旗舰手机Mate 40 。据台湾媒体报道，台积电已经积极协调高通、联发科、AMD、英伟达等厂商的订单，优先挪部分给华为，争取在120天缓冲器内先帮华为生产足够的芯片。在上半年，华为已经把原来给台积电的订单部门转移到中芯国际。中芯国际当前已经具备不依赖ASML的光端机生产7nm工艺，再加上海微电子同步加速高端光端机的研制。
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中芯国际， N+1工艺和台积电第一代7nm工艺相近， N+2代工艺与台积电的7nm+相近。 N+1工艺有望在2020年第4季度正式开始量产。至于光刻机，中芯国际CEO梁孟松,表示在当前的环境下， N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺，等到设备就绪之后， N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。
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那么什么是光刻机？又为何如此重要？接下来，道哥，给您一一娓娓道来。光刻机，其英文名为Mask Aligner ，又名曝光系统，光刻系统。现在，常用的光刻机，严格而言，是“掩模对准曝光机” ，英文为Alignment System 。
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光刻机的工作原理机制，在芯片的硅片表面上，覆盖一层具有高度的立体光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀，最后洗去剩余光刻胶，就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程。
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在平时生活中，特别是科技产品，无论是手机、PC、空调、汽车等，还是大飞机、火箭等，其核心部件，例如CPU、GPU、内存、主控板、信令板、媒体板、电路板等，都缺不了芯片的支持，也就是说，现代社会维持正常的运转，已经离开不了芯片，可见能否制造芯片，已经是至关重要。
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而光刻机是就是制造芯片过程中的一个重要工具，缺一不可。当前，中国每年进口芯片的金额量，早已超两桶油的进口量的金额，可见，可见，光刻机的重要性不言而喻。
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有人会说，从原理看来不难呀。如果造一个几米的芯片难度不大，但是需要在只有几毫米芯片硅片表面上，进行精刻成多层多纳米级的多维点面的类似几十层的多维大楼，且能保证所建的整座大楼能散热、通风、通电、通水、通行等，其实际难度可不是一般的大。如果难度不大，我们国家早就大量进口了，每年进口的金额堪比两桶油的进口量的金额。
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中芯国际，从荷兰ASML公司进口的光刻机，单台就上亿元，还是提前交定金才能买得到。荷兰ASML公司的光刻机。不是有钱，你想买就能买。 1996年的《瓦森纳协定》有严格的审核要求。他们有严格的资质审核要求，达到了资质才能买到。这次中芯国际，能拿到荷兰ASML公司的光刻机，如果不是荷兰国内疫情有压力，可能他们不卖给我国。
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