有转机？中国企业计划联合日本巨头生产高端光刻机，会是华为吗？也许很多人也没想到

也许很多人也没想到，本来属于半导体行业领域中极为小众的光刻机，会成为当下大众所持续关注的焦点。
这样也可以算作好事，毕竟短板暴露了，我们才知道哪里要补足！
不过说起来容易，做起来依然还是一件难事，不然华为也不会面临没有高端芯片可以用的困境。
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华为
不只是因为华为被断供芯片，我们就要研究光刻机，而是因为这就是我们目前高科技发展的重点方向。
特别是中科院院长白春礼在“率先计划”第二阶段已经宣布把：光刻机，轴承钢，航空轮胎等核心材料和技术，列入下一个科研任务清单！
如此正是把光刻机等被“卡脖子”的核心技术提升到了前所未有的高度。
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我们要很清楚地知道自己的优缺点，才好判断下一步该如何走！
就拿现在我们的国产光刻机龙头企业：上海微电子公司来说，目前上海微电子能生产的光刻机为90nm工艺，而28nm工艺的光刻机也在年底会实现量产。
总的来说，进步还是非常快的， 90nm到28nm的跨越值得鼓励。
不过作为对比也要知道，全球的EUV光刻机，只有荷兰的ASML公司能够生产，他们拥有制造7nm乃至5nm芯片工艺制程的能力！
但是由于ASML的光刻机使用了美国技术，所以导致台积电等芯片代工厂无法给华为供给先进的5nm芯片。
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所以余承东才会说，可能华为的新旗舰，也就是华为 mate 40系列可能是麒麟高端芯片的绝唱，卖一部少一部！
不过，好消息也在传来！根据日本媒体，有中国企业计划提供资金，联合日本的两大光刻机巨头，也就是被ASML在21世纪初超越的尼康和佳能，一起研发高端的光刻机产品。
这无疑给我们的光刻机难题带来了曙光，给华为带来了转机！
毕竟现在要缓解问题，还是需要光刻机做支撑，而后慢慢寻找对策。
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发光的中央处理器芯片装在电脑主板上
虽然像是倪光南院士，已经提出了一套完整的“中国体系”解决方案，也就是依靠独有的软件与硬件结合的方式，让普通的芯片也能联合起来，产生超过先进芯片的性能。
不过如今来说，光刻机始终是要面对的芯片制造主要问题之一。
而这次如果合作能够达成，也是为如何解决光刻机难题，提供了创新的思路。
这家中国企业会是华为吗？可能很多人不知道，在早期，光刻机的领先者还是日本的佳能和尼康两家公司，直到2004年， ASML公司才慢慢超越两家日本巨头，直到如今的垄断高端EUV光刻机市场！
而在当下被卡脖子严重的就当数华为公司了，所以就有人会问了，这次的中国企业会是华为吗？
毕竟华为在2019年营收超过8500亿元，更是投入了1317亿元来做研发，这可能是很多大公司10年的收入！
如果华为与日本的尼康和佳能联合，开始生产高端光刻机，对于日本这两家光刻机巨头而言，也能增加销量，提升竞争力。而对于华为来说，更是让芯片困局得到缓解，可谓互惠互利。
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华为创始人任正非本就具有先见之明，从在10年前就给海思安排了“备胎”计划这件事情上就可见一斑。
在这些年，本来少有接受采访的任正非开始频繁接受访谈，对外发声，与此同时，经常访问的一些工科大学，更是率队到访中科院，沟通交流。