ASML示好中国，美国突然宣布新规，国产光刻机形势危急前段时间的芯片禁令暴露了很多的问题

前段时间的芯片禁令暴露了很多的问题，把芯片的生产分成的三个阶段，分别是芯片设计，芯片制造和芯片封测，其中芯片封测最简单，芯片制造最困难，而我国目前只有华为掌握了5nm芯片的设计能力，而中国的芯片制造能力与荷兰的ASML相差了至少两代技术以上。
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其实如果不是因为芯片禁令的话，恐怕我们都不知道光刻机这项技术原来是这么的重要，从这点我们应该也能感悟到，其实有很多的科技我国是比较落后的，只不过我们平常接触到的都是中国强大的科技领域，但这并不代表我们就真的全方面强大了。
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我们还是有很多的不足的地方，不过光刻机确实是比较致命的一个科技领域，因为现代科技当中芯片的作用是至关重要的，而光刻机作为唯一能够生产芯片的设备，重要性不言而喻，好在最近也是有好消息传来， ASML态度暧昧示好中国。
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然而祸福相依，好消息还未开心多久，美国突然宣布新规，国产光刻机再次形势危急。一开始是ASML非常重视中国是市场，荷兰方面在长时间和美国的拉锯之后， ASML终于表明可以不需要美国的许可就能向中国出口光刻机。
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虽然出口的不是EUV光刻机，但是DUV光刻机同样对我们来说是裨益良多的。然而美国紧接着宣布新规，一方面是美国半导体协会和美国半导体企业一起合力推出“半导体十年计划” ，目的是为了维持美在半导体行业的领先地位。
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【ASML示好中国，美国突然宣布新规，国产光刻机形势危急】同时在人工智能、高级无线通信、量子计算等高端前沿技术，美国同样信心满满，从这项计划也能看得出，因为我国已经开始布局半导体行业了，但是美国显然是不希望我国的实力能够后来居上的，他们也是想要从整个半导体行业上始终压制着我们，我们一定不能让他们得逞！